[實用新型]一種研磨墊有效
| 申請號： | 201420581031.6 | 申請日： | 2014-10-09 |
| 公開（公告）號： | CN204135871U | 公開（公告）日： | 2015-02-04 |
| 發明（設計）人： | 魏紅建 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/26 | 分類號： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人： | 李儀萍 |
| 地址： | 100176 北京市大興區大*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 研磨 | ||
【權利要求書】：
1.一種研磨墊，其特征在于，所述研磨墊包括：研磨墊體；形成于所述研磨墊體表面的若干個圓環形溝槽；以及形成于所述研磨墊體邊緣區域的臺階結構。
2.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于：所述研磨墊體的形狀為圓盤形。
3.根據權利要求2所述的研磨墊，其特征在于：所述臺階結構的整體形狀為圓環形。
4.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于：所述臺階結構包括多個梯度相等的臺階。
5.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于：所述臺階結構的各臺階表面形成有不同的標識結構。
6.根據權利要求5所述的研磨墊，其特征在于：所述不同的標識結構為不同顏色的涂層。
7.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于：所述臺階結構包括3～8個臺階。
8.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于：所述臺階結構的總高度不小于所述圓環形溝槽的深度。
9.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于：所述研磨墊為機械化學拋光用的研磨墊。
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