[實(shí)用新型]一種熔窯溢流處理系統(tǒng)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420459624.5
• 申請日: 2014-08-15
• 公開（公告）號: CN204125328U
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 程鵬;陳發(fā)偉;劉國榮
• 申請（專利權(quán)）人: 四川旭虹光電科技有限公司;東旭集團(tuán)有限公司
• 主分類號: C03B5/26
• 分類號: C03B5/26
• 代理公司: 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220
• 代理人: 王記明

1.一種熔窯溢流處理系統(tǒng)裝置，其特征在于：包括溢流槽磚（1）、調(diào)節(jié)磚（2）和導(dǎo)向磚（4），所述溢流槽磚（1）設(shè)置在熔窯熔化部兩側(cè)池壁磚與熔化部后池壁的交接處，溢流槽磚（1）與導(dǎo)向磚（4）相連，調(diào)節(jié)磚（2）轉(zhuǎn)動設(shè)置在溢流槽磚（1）與導(dǎo)向磚（4）的連接處，導(dǎo)向磚（4）的一側(cè)上安裝有溫控槍（3），所述導(dǎo)向磚（4）內(nèi)設(shè)有凹槽，凹槽槽底開有溢流孔（16），在所述溢流孔（16）正下方設(shè)置有排出結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種熔窯溢流處理系統(tǒng)裝置，其特征在于：所述排出結(jié)構(gòu)包括水淬管（6）、導(dǎo)向管和收集小車（10），所述水淬管（6）傾斜設(shè)置且連接于溢流孔（16）和導(dǎo)向管之間，導(dǎo)向管與收集小車（10）連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種熔窯溢流處理系統(tǒng)裝置，其特征在于：所述水淬管包括噴淋器（5）、內(nèi)層套管（15）和外層套管（14），內(nèi)層套管（15）與外層套管（14）之間設(shè)有冷卻腔，噴淋器（5）安裝在內(nèi)層套管（15）內(nèi)，在外層套管（14）靠近窯爐的一側(cè)上間隔設(shè)置有兩個進(jìn)水口A（13），在外層套管（14）的另一側(cè)上設(shè)置有進(jìn)水口B（11），進(jìn)水口A（13）、進(jìn)水口B（11）與噴淋器（5）連通。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種熔窯溢流處理系統(tǒng)裝置，其特征在于：所述導(dǎo)向管包括異形管槽（7）和支撐座（8），支撐座（8）通過支撐板（9）與異形管槽（7）的中部連接，異形管槽（7）的槽口與收集小車（10）連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種熔窯溢流處理系統(tǒng)裝置，其特征在于：所述噴淋器（5）包括多個間隔設(shè)置的條形噴淋口（12），相鄰的兩個條形噴淋口（12）之間的間距為L，且50㎜≤L≤100㎜。