[實用新型]醫(yī)療技術(shù)的成像設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420441745.7 | 申請日: | 2014-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN204133484U | 公開(公告)日: | 2015-02-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | S.海德;O.霍伊爾曼 | 申請(專利權(quán))人: | 西門子公司 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00;A61B19/00;H05G1/02 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 郝俊梅 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 醫(yī)療 技術(shù) 成像 設(shè)備 | ||
1.一種醫(yī)療技術(shù)的成像設(shè)備,包括至少一個發(fā)熱組件(3、4、9),其特征為:發(fā)熱組件(3、4、9)至少部分具有氮化硼和/或氮化硼化合物的鍍層。
2.按照權(quán)利要求1所述的醫(yī)療技術(shù)成像設(shè)備,其特征為,所述成像設(shè)備是一種計算機X射線斷層照相設(shè)備。
3.按照權(quán)利要求2所述的醫(yī)療技術(shù)成像設(shè)備,其特征為,所述計算機X射線斷層照相設(shè)備包括臺架(1),該臺架具有旋轉(zhuǎn)部分(2)和靜止部分。
4.按照權(quán)利要求3所述的醫(yī)療技術(shù)成像設(shè)備,其特征為,所述發(fā)熱組件(3、4、9)安裝在旋轉(zhuǎn)部分(2)內(nèi)。
5.按照前列諸權(quán)利要求之一所述的醫(yī)療技術(shù)成像設(shè)備,其特征為,所述氮化硼和/或氮化硼化合物的鍍層敷設(shè)在所述發(fā)熱組件(3、4、9)被空氣繞流的表面上。
6.按照前列諸權(quán)利要求之一所述的醫(yī)療技術(shù)成像設(shè)備,其特征為,所述旋轉(zhuǎn)部分(2)包括至少一個具有變壓器油(6)的高壓生成單元(4),所述變壓器油(6)含有由氮化硼和/或氮化硼化合物組成的添加物。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西門子公司,未經(jīng)西門子公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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