[實用新型]離子源及采用該離子源的離子注入機

有效

• 申請號: 201420396795.8
• 申請日: 2014-07-17
• 公開（公告）號: CN203983227U
• 公開（公告）日: 2014-12-03
• 發明（設計）人: 單易飛
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: H01J37/08
• 分類號: H01J37/08;H01J37/317
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 李儀萍

1.一種離子源，至少包括離子發生腔，所述離子發生腔由頂板、側板(202)及底板圍成，其特征在于：所述頂板由一收容槽及一對可在所述收容槽中相對移動的滑板組成；所述收容槽的底部具有一縫隙，所述收容槽的頂部具有一開口以露出所述縫隙；所述滑板相對移動以控制露出的縫隙大小。

2.根據權利要求1所述的離子源，其特征在于：所述滑板通過一牽引機構驅動；所述牽引機構包括一對驅動臂、一對螺桿及一發動機齒輪，所述驅動臂的兩端分別連接于所述滑板的外端及所述螺桿的外端，該一對螺桿平行排列并分別與所述發動機齒輪的頂部和底部嵌合接觸，并在所述發動機齒輪的驅動下相對移動，從而帶動一對滑板相對移動。

3.根據權利要求1所述的離子源，其特征在于：所述側板與所述底板之間通過焊接、緊固件或卡固方式連接；所述側板與所述收容槽之間通過焊接、緊固件或卡固方式連接。

4.根據權利要求1所述的離子源，其特征在于：所述開口將所述收容槽頂部隔斷。

5.根據權利要求1所述的離子源，其特征在于：所述滑板為石墨板。

6.根據權利要求1所述的離子源，其特征在于：所述側板、底板或收容槽的材料為金屬。

7.根據權利要求1所述的離子源，其特征在于：所述側板、底板或收容槽的材料為鉬或鎢。

8.一種包括權利要求1～7任意一項所述離子源的離子注入機。