[實用新型]氣冷滴丸生產線

有效

• 申請號: 201420383996.4
• 申請日: 2014-07-11
• 公開（公告）號: CN204170103U
• 公開（公告）日: 2015-02-25
• 發明（設計）人: 閆希軍;孫小兵;鄭永鋒;范立君;付艷
• 申請（專利權）人: 天士力制藥集團股份有限公司
• 主分類號: A61J3/06
• 分類號: A61J3/06
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 姚垚;張榮彥

技術領域

本實用新型涉及一種氣冷滴丸生產線，屬于滴丸機制造技術領域。

背景技術

滴丸是中藥制劑中的一種傳統劑型，以其生產周期短、起效迅速、藥物穩定性高且便于攜帶貯存的諸多優點而獲得普遍認可。

現有的滴丸生產方法基本上為自然滴制并結合液體冷卻，或由自然滴制法改進而來的加壓滴制法并結合液體冷卻，現有設備的缺陷在于：1、基于液體冷卻介質的特性，采用該種冷卻方式滴制的滴丸，丸重范圍會受到一定的限制，通常在20-30mg之間,微丸或大丸都無法滴制。2、同時，為保證滴制效果,需在原料藥液中加入大量基質,導致單位載藥量小,服藥量相應增大。3、另外，采用液體冷卻的方式，需要進行滴丸和冷卻液的液固分離，兩者的徹底分離操作起來比較困難，因此，冷卻液難免會在滴丸上存在殘留，導致滴丸污染。4、當需要調整產量時，傳統的滴制設備一般僅能通過改變滴頭及壓力進行調節，滴制頻率較低，再加上需要較大的石蠟熱交換表面積，循環效率低，能耗大，導致設備體積大，易存在清潔死角，交叉污染風險大。

另外，現有滴頭在黏稠液體高速噴出時，滴嘴周圍會有殘余的藥液堆積，最終導致滴嘴堵塞而影響滴制。設置在滴盤上的振動裝置在使用過程中有可能出現頻率不穩定，導致成丸大小不均一，直接影響滴丸的成品質量。

如何對現有的滴制設備進行改進，包括滴制過程中的穩定性、有效增加滴丸成形質量及提高生產速度、提高載藥量，并擴大滴丸可滴制尺寸范圍，同時降低能耗及冷卻液用量，防止滴丸污染，是目前滴丸設備改進的發展趨勢和研究方向。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題在于針對現有技術的不足，提供一種氣冷滴丸生產線，首次將振動滴制、空氣冷卻與流化干燥包衣結合為一體，并應用于滴丸制劑及滴丸膠囊制劑，滿足了滴丸制備中對高速滴制、制備微丸能力以及提高載藥量的要求，成倍提高滴丸載藥量，大幅度降低輔料用量和服用劑量；操作工序簡化，完全無有機溶劑殘留；滿足包括緩釋包衣、薄膜包衣和包糖衣在內的不同工藝要求。真正達到低能耗、高速、高效、高載藥量，具備更廣泛的可滴制范圍；進一步通過滴孔的外圍開設有凹形環槽，防止在黏稠液體高速噴出時，噴孔周圍有殘余的藥液堆積，最終導致噴孔堵塞或影響滴制。

本實用新型的所要解決的技術問題是通過如下技術方案實現的：

一種氣冷滴丸生產線，包括滴丸系統、氣冷循環系統和控制系統，滴丸系統包括化料罐和與其相連的滴頭，所述化料罐與滴頭之間設有振動裝置，振動裝置帶動滴頭上下振動，產生的振動剪切力，將滴頭中流出的藥液剪切成滴，落入氣冷循環系統冷卻后形成滴丸，所述滴頭主要包括滴盤，滴盤上設有多個滴孔，滴孔的外圍開設有凹形環槽。

根據需要，所述凹形環槽的內徑＝滴孔內徑+0.4毫米，外徑≥1.5毫米，槽深為0.5-5毫米。

為了便于在線監測和控制，，所述滴頭上設有在線監測裝置，該裝置包括脈沖信號發射機構，所述脈沖信號發射機構的發射頻率與所述振動裝置的振動頻率相同，控制系統根據在線監測裝置的監測結果，控制調節滴制參數。

為了便于觀察，所述在線監測裝置設置在所述滴頭下方的側面；所述脈沖信號發射機構為頻閃燈，所述頻閃燈和振動裝置的振動頻率相同；為了使觀察結果更加準確并有效保留監測記錄，所述在線監測裝置還包括與頻閃燈對應設置的攝像頭,攝像頭與頻閃燈處于同一水平面上，并與頻閃燈照射路線呈15°-145°夾角。

具體來說，所述滴制參數主要包括：

所述頻閃燈和振動裝置的振動頻率：50-300HZ，優選90-200Hz，最優130-140HZ；

滴制速度：10-40Kg/hr，優選12-30Kg/hr，最優15-25Kg/hr；

滴制加速度：1-20G，優選3-10G，最優3.5-4.5G；

滴制壓力：0.5-4.0Bar，優選1.0-3.0Bar，最優1.8Bar；

滴頭溫度：70-200℃，優選70-100℃，最優75-85℃。

為了保證滴制溫度恒定，所述的滴頭外部設有保溫腔，所述保溫腔的外層設有隔熱材料，內層設有蒸汽加熱裝置或紅外加熱裝置，保溫腔的下方設有開口，開口的位置與滴頭的出口位置對應設置，開口的大小與滴頭的寬度對應設置。

所述氣冷循環系統包括：冷卻管道，以及與所述冷卻管道連接并對冷卻管道制冷的制冷裝置，所述冷卻管道外設有夾層，所述夾層下部通過連通口與冷卻管道內部連通；

所述制冷裝置包括：冷風制冷裝置和冷阱制冷裝置，其中：