[實用新型]應用于磁約束聚變裝置的高精度磁場傾斜角測量系統

有效

• 申請號: 201420297097.2
• 申請日: 2014-06-05
• 公開（公告）號: CN203930029U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 余德良;陳文錦
• 申請（專利權）人: 核工業西南物理研究院
• 主分類號: G01R33/02
• 分類號: G01R33/02;G01J4/00
• 代理公司: 核工業專利中心 11007
• 代理人: 高尚梅

1.應用于磁約束聚變裝置的高精度磁場傾斜角測量系統，其特征在于：它包括安裝在聚變等離子體(1)中的中性束注入系統(2)，聚變等離子體(1)的外部設有前端光學鏡頭(3)，前端光學鏡頭(3)與光學調制系統(4)連接，光學調制系統(4)通過光纖(5)與光柵(6)連接，光柵(6)與光纖陣列以及光電轉化系統(7)相對，光纖陣列以及光電轉化系統(7)與鎖相放大器(8)連接，同時光學調制系統(4)與鎖相放大器(8)連接從而對后者提供參考信號，鎖相放大器(8)與數據采集和控制電腦(9)連接。

2.如權利要求1所述的應用于磁約束聚變裝置的高精度磁場傾斜角測量系統，其特征在于：所述的光學調制系統(4)包括2個PEM與1個偏振片。