[實用新型]一種用于反射二型噴頭的濺散盤有效
| 申請號： | 201420285000.6 | 申請日： | 2014-05-30 |
| 公開（公告）號： | CN203893739U | 公開（公告）日： | 2014-10-22 |
| 發明（設計）人： | 儲斌;孫國虎 | 申請（專利權）人： | 安徽航達環?？萍加邢薰?/a> |
| 主分類號： | F28F25/08 | 分類號： | F28F25/08 |
| 代理公司： | 南京正聯知識產權代理有限公司 32243 | 代理人： | 郭俊玲 |
| 地址： | 242100 *** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 反射 噴頭 濺散盤 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于反射二型噴頭的濺散盤，其特征在于：包括上濺散盤（1）和反射濺散盤（2），所述上濺散盤（1）設置在噴頭（3）下方，在所述上濺散盤（1）下方可拆卸連接有反射濺散盤（2）。
2.如權利要求1所述的一種用于反射二型噴頭的濺散盤，其特征在于：在所述上濺散盤（1）的四周均勻設置有至少3個楔形開口（4），在所述反射濺散盤（2）的相對應位置分別設置有與所述楔形開口（4）相適配的楔塊（5）。
3.如權利要求2所述的一種用于反射二型噴頭的濺散盤，其特征在于：在所述上濺散盤（1）的四周均勻設置有葉片（6），多個所述楔形開口（4）位于葉片（6）的上方。
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