[實用新型]研磨機

有效

• 申請號: 201420256040.8
• 申請日: 2014-05-19
• 公開（公告）號: CN203945205U
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發明（設計）人: 李克順
• 申請（專利權）人: 昆山金箭機械設備有限公司
• 主分類號: B24B3/24
• 分類號: B24B3/24;B24B41/04;B24B55/00;B24B41/06;B24B41/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

技術領域

本實用新型涉及機械制造領域，特別涉及一種研磨機。

背景技術

電路板在進行電子元件配置之前，需在其板梯上的適當位置間隔設置多個穿孔，以供各電子元件穿設定位之用，其中，用以在電路板上鉆設穿孔的鉆針，其端部在經過多次的使用后會逐漸鈍化甚至切削部會斷裂，造成加工的不便及誤差，此時，加工者會將鉆針取下，研磨其端部，使鉆針端部恢復至可順暢地在電路板上鉆孔的狀態。

目前的鉆針研磨多采用手工操作模式，或者采用半手工半機械加工的模式，較為浪費人力，且人工操作容易產生人為誤差，導致鉆針加工不良，使得鉆針良率低。

實用新型內容

本實用新型提供一種研磨機，以克服現有技術中鉆針加工人為誤差大、良率低的問題。

一種研磨機，包括：整機框架、設置在所述整機框架中的旋轉工作臺、沿所述旋轉工作臺周向設置的自動上料機構、自動對刀角度補償裝置、研磨裝置、鉆針刀面清潔與檢測裝置以及自動下料機構；其中，所述旋轉工作臺四周設置有工站伺服系統，所述工站伺服系統帶動鉆針在所述自動上料機構、鉆針自動對刀角度補償裝置、研磨裝置、鉆針刀面清潔與檢測裝置以及自動下料機構之間完成鉆針的自動上料、對刀補償、角度補償、研磨、清潔、檢測與下料動作。

進一步的，所述自動上料機構和自動下料機構均包括：支撐架、固定在所述支撐架上的第一機械手以及與所述第一機械手位置對應的第二機械手，所述第一機械手包括固定在所述支撐架頂端的滑桿以及設置在所述滑桿上的夾具，所述第二機械手上放置有料盤，所述夾具在所述料盤和工站伺服系統之間移動，實現自動上料/下料。

進一步的，所述旋轉工作臺包括：底座，設置在所述底座上的旋轉臺和驅動所述旋轉臺旋轉的DD馬達，所述工站伺服系統設置于所述旋轉臺四周。

進一步的，所述工站伺服系統包括：支座，設置在所述支座外側的線軌，設置在所述支座內側的伺服馬達，以及設置在所述線軌上的鉆針萬向夾頭和鉆針夾頭支撐座，鉆針安裝在所述鉆針萬向夾頭上，所述鉆針萬向夾頭由所述伺服馬達驅動；所述鉆針夾頭支撐座固定在所述線軌的活動塊上，位置與所述鉆針萬向夾頭對應。

進一步的，所述自動對刀角度補償裝置包括：對刀機構和與所述對刀機構位置對應的CCD，其中，所述對刀機構包括對刀支架，設置在所述對刀支架上的線軌，與所述鉆針對應的Ｖ槽以及通過所述線軌控制所述Ｖ槽移動的伺服電機。

進一步的，所述研磨裝置包括研磨框架，設置在所述研磨框架底部的第一、第二驅動裝置以及設置在所述研磨框架中的砂輪；其中，所述第一驅動裝置與第二驅動裝置的初始位置方向垂直，所述第一、第二驅動裝置配合動作使所述研磨框架以及研磨框架中的砂輪移動。

進一步的，所述研磨裝置還包括主軸，所述主軸由一變頻器控制，并與所述砂輪固定連接，所述砂輪和主軸通過砂輪座與所述研磨框架活動連接。

進一步的，所述砂輪座包括連接部和與所述連接部垂直的活動部，所述連接部中心設有與所述砂輪對應的圓孔，所述活動部遠離所述連接部一端設置有滑塊和指針，所述滑塊與固定在所述研磨框架上的導桿對應，所述指針指向研磨框架外側的刻度尺。

進一步的，所述鉆針刀面清潔與檢測裝置包括：檢測機構和清潔機構，所述清潔機構安裝在一滑動導軌上，所述滑動導軌設置于所述檢測機構與鉆針之間；所述清潔機構在所述滑動導軌上往復移動。

進一步的，所述清潔機構包括：清潔氣缸、粘性清潔泥土、粘性清潔泥土安裝架、光源和光源固定座，所述粘性清潔泥土安裝在所述粘性清潔泥土安裝架的頂部一側，位置與所述鉆針對應；所述清潔氣缸驅動所述粘性清潔泥土做往復運動；所述光源安裝在所述光源固定座上，所述光源固定座設置于所述粘性清潔泥土安裝架一側。

與現有技術相比，本實用新型將研磨鉆針的各裝置安裝在旋轉工作臺的周圍，通過旋轉工作臺的工站伺服系統帶動鉆針在所述自動上料機構、自動對刀角度補償裝置、研磨裝置、鉆針刀面清潔與檢測裝置以及自動下料機構之間完成自動上料、角度補償、對刀補償、研磨、清潔、檢測與下料動作，實現了鉆針研磨的全程機械自動化，避免了鉆針加工的人為誤差，提高了鉆針良率，并且降低了人工成本，大大提高了工作效率。

附圖說明

圖1為本實用新型一具體實施方式中研磨機的俯視圖；

圖2為本實用新型一具體實施方式中旋轉工作臺的結構示意圖；

圖3為本實用新型一具體實施方式中自動上、下料機構的立體結構示意圖；

圖4為圖3的主視圖；