[實用新型]一種二極管的清洗池有效
| 申請號： | 201420238640.1 | 申請日： | 2014-05-09 |
| 公開（公告）號： | CN203839352U | 公開（公告）日： | 2014-09-17 |
| 發明（設計）人： | 汪文忠 | 申請（專利權）人： | 金寨縣凱旋電子科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67;B08B3/02;B08B3/10 |
| 代理公司： | 安徽信拓律師事務所 34117 | 代理人： | 鞠翔 |
| 地址： | 237300 *** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 二極管 清洗 | ||
【權利要求書】：
1.一種二極管的清洗池，其特征在于：包括固定箱，所述固定箱內設有一清潔池，所述清潔池一側連接有噴水管，所述噴水管穿過固定箱連接到清潔池上，所述清潔池下方設有回收管，所述回收管一端連接到噴水管上，所述回收管與清潔池連接處設有一過濾器，所述清潔池底部設有震動板，震動板為電動的震動板。
2.根據權利要求1所述的一種二極管的清洗池，其特征在于：所述回收管為圓弧狀結構。
3.根據權利要求1所述的一種二極管的清洗池，其特征在于：所述過濾器分兩層，上層是篩網，下層是活性炭。
4.根據權利要求1所述的一種二極管的清洗池，其特征在于：所述震動板在清潔池底部按照上、下、左、右的方向循環震動。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
