[實用新型]一種基于QLED光源的光刻機

有效

• 申請號: 201420210344.0
• 申請日: 2014-04-28
• 公開（公告）號: CN203858450U
• 公開（公告）日: 2014-10-01
• 發明（設計）人: 盛晨航;彭娟;李喜峰;張建華
• 申請（專利權）人: 上海大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海上大專利事務所(普通合伙) 31205
• 代理人: 陸聰明

1.一種基于QLED光源的光刻機，其特征在于，包括發光控制器（1），QLED陣列（3），透鏡組（4），圖形發生器（5），投影光路（6），基片（7）和移動平臺（8）；所述QLED陣列（3）安裝在發光控制器（1）上，組成QLED光源光學系統（2）；所述透鏡組（4）位于QLED光源光學系統（2）的右上方，與QLED陣列（3）同軸，所述圖形發生器（5）位于透鏡組（4）同軸的右上方，所述投影光路（6）位于圖形發生器（5）與移動平臺（8）之間，并垂直于移動平臺（8），所述基片（7）固定于移動平臺（8）上；所述發光控制器（1）設置QLED陣列（3）的曝光時間和相對輻照強度，所述透鏡組（4）用于對光束進行整形，光束經由所述圖形發生器（5）以及投影光路（6）實現對基片（7）的曝光。

2.根據權利要求1所述的基于QLED光源的光刻機，其特征在于，所述QLED陣列（3）的光強不均勻度在光刻面積內小于5%。