[實用新型]一種驅動電極板、電容上極板分離式RF MEMS開關有效
| 申請號: | 201420189983.3 | 申請日: | 2014-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN203910690U | 公開(公告)日: | 2014-10-29 |
| 發明(設計)人: | 楊俊民 | 申請(專利權)人: | 蘇州錕恩電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01H59/00 | 分類號: | H01H59/00 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
| 地址: | 215153 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 驅動 極板 電容 分離 rf mems 開關 | ||
技術領域
本設計涉及一種驅動電極板、電容上極板分離式RF?MEMS開關,屬于射頻技術領域。?
背景技術
????RF?MEMS開關通常采用靜電驅動技術,具有能耗低(數微瓦)、偏置網絡簡單、開關時間較短(電極尺寸小、膜層薄)等優點,但也存在驅動電壓高(30-80?V)等缺點。而移動通信設備的工作電壓一般要低很多,如手機的工作電壓為3.3?V,需要增加向上變換器。另外,電容式RF?MEMS開關的壽命與驅動電壓有很大關系,驅動電壓每下降5--7V,開關的壽命可延長10年。如何降低驅動電壓,不僅和開關的材料有關,還與開關的幾何結構緊密相關。?
發明內容
本發明的目的是通過優化上極板的支撐結構,從而有效的降低微橋的彈性系數,從而降低電容式RF?MEMS開關的驅動電壓。?
為實現上述目的,本設計是通過以下技術手段來實現的:?
一種驅動電極板、電容上極板分離式RF?MEMS開關,包括襯底、位于襯底上的緩沖介質層、接地線、共面波導傳輸線、錨點、絕緣介質層、彈性折疊梁、上電極,所述接地線、共面波導傳輸線、錨點設于緩沖介質層上,所述絕緣介質層覆于所述共面波導傳輸線上,所述上電極與所述絕緣介質層留有間隙,其特征在于:所述上電極分為電容上極板和位于電容上極板兩端的驅動電極板,所述驅動電極板和電容上極板之間通過兩套彎曲形狀為n形、彎曲個數為1個的彈性折疊梁連接;所述驅動電極板通過彎曲形狀為n形、彎曲個數為2個、套數為2個的彈性折疊梁與錨點連接。
????優選的,所述的一種驅動電極板、電容上極板分離式RF?MEMS開關,其特征在于:所述襯底材料選用高阻硅(大于1000Ω·cm),緩沖介質層材料為SiO2,絕緣介質層材料為Si3N4。?
????優選的,所述的一種驅動電極板、電容上極板分離式RF?MEMS開關,其特征在于:所述緩沖介質層厚為1μm,所述絕緣介質層厚度為150nm。?
優選的,所述的一種驅動電極板、電容上極板分離式RF?MEMS開關,其特征在于:所述驅動電極板和電容上極板、所述彈性折疊梁材料為Si/Al合金。?
本發明的有益效果是:本設計通過采用2套彎曲形狀為n形、彎曲個數為2個的彈性折疊梁結構的,同時將上電極分為通過雙直梁連接的驅動電極板和電容上極板,有效地降低了微橋的彈性系數,從而有效地降低了降低開關的驅動電壓,實驗證明,驅動電壓可低于3V。?
附圖說明
圖1為RF?MEMS開關結構示意圖,圖2為彈性折疊梁結構形狀示意圖,圖3為彈性折疊梁與上電極結構示意圖。?
附圖標號的含義如下:1彈性折疊梁,2上電極,3錨點,4緩沖介質層,5絕緣介質層,6共面波導傳輸線,7接地線,8襯底。?
具體實施方式
下面將結合說明書附圖,對設計作進一步的說明。?
?????如圖1--3所示,一種驅動電極板、電容上極板分離式RF?MEMS開關,包括襯底8、位于襯底上的緩沖介質層4、接地線7、共面波導傳輸線6、錨點3、絕緣介質層5、彈性折疊梁1、上電極2,所述接地線7、共面波導傳輸線6、錨點3設于緩沖介質層4上,所述絕緣介質層5覆于所述共面波導傳輸線6上,所述上電極2與所述絕緣介質層5留有間隙,其特征在于:所述上電極2分為電容上極板2-2和位于電容上極板兩端的驅動電極板2-1,所述驅動電極板2-1和電容上極板2-2之間通過兩套彎曲形狀為n形、彎曲個數為1個的彈性折疊梁1-2連接;所述驅動電極板2-1通過彎曲形狀為n形、彎曲個數為2個、套數為2個的彈性折疊梁1-1與錨點連接。?
????增加彈性折疊梁的彎曲個數可以降低彈性系數。但隨著彎曲個數的增加,彈性系數降低的趨勢逐漸減緩。過多的曲折個數,還會增加結構的平面尺寸,增大曲折梁折斷、塌陷的概率。所以,本設計選取上述彈性折疊梁的彎曲個數。?
????優選的,所述的一種驅動電極板、電容上極板分離式RF?MEMS開關,其特征在于:所述襯底8材料選用高阻硅(大于1000Ω·cm),緩沖介質層4材料為SiO2,絕緣介質層5材料為Si3N4。?
????優選的,所述的一種驅動電極板、電容上極板分離式RF?MEMS開關,其特征在于:所述緩沖介質層4厚為1μm,所述絕緣介質層5厚度為150nm。?
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