[實用新型]GaN基等離子激元探測器有效
| 申請號: | 201420150501.3 | 申請日: | 2014-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN203760501U | 公開(公告)日: | 2014-08-06 |
| 發明(設計)人: | 王俊龍;梁士雄;邢東;張立森;楊大寶;蔚翠;馮志紅 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第十三研究所 |
| 主分類號: | H01L31/108 | 分類號: | H01L31/108;H01L31/0352 |
| 代理公司: | 石家莊國為知識產權事務所 13120 | 代理人: | 米文智 |
| 地址: | 050051 *** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | gan 等離子 探測器 | ||
技術領域
本實用新型涉及半導體器件技術領域。
背景技術
太赫茲(THz)波是指頻率在0.3-3THz范圍內的電磁波,其中 1THz=1000GHz。THz波在電磁波頻譜中占有很特殊的位置,THz技術是國際科技界公認的一個非常重要的交叉前沿領域。
要實現對太赫茲波的利用,需要有相應的太赫茲波檢測手段。目前可以實現太赫茲探測的技術主要有:1、基于等離子激元的太赫茲探測器;2、基于肖特基二極管的探測器;3、基于熱電輻射計的太赫茲探測器;4、基于多量子阱的太赫茲探測器。其中基于肖特基二極管的探測技術,一般需要本振鏈路,接收系統比較復雜。基于熱電輻射計和多量子阱技術的太赫茲探測器,需要低溫冷卻裝置?;诘入x子激元的太赫茲探測器,可以將待測太赫茲波的能量直接轉換為直流信號,并且響應速度快,且室溫工作,是目前非常有前途的一種太赫茲探測技術。主要基于氮化鎵(GaN)材料和砷化鎵(GaAs)材料,由于前者二維電子氣濃度更高,主要研究的還是基于GaN的等離子激元探測器。目前等離子激元探測器主要有單柵長結構和周期光柵型柵結構。基于周期光柵型柵結構的探測器,由于周期光柵型柵可以提高太赫茲波與探測器的耦合效率,并且其對二維電子氣的調制能力更強,因此周期光柵型柵的等離子激元探測器研究的越來越多,但是周期光柵型柵由于柵部分全是金屬,周期光柵型柵金屬減少了太赫茲波的實際照射面積,也就減少了太赫茲波與二維電子氣的耦合效率。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是提供一種GaN基等離子激元探測器,該探測器采用周期型柵結構,周期型柵采用石墨烯,而不是傳統的金屬, 與金屬柵相比,增加了太赫茲波的透過率,即增加了太赫茲波與二維電子氣的耦合效率。
為解決上述技術問題,本實用新型所采取的技術方案是:自下至上包括襯底、AlN緩沖層、GaN層和AlGaN層,AlGaN層面積小于GaN層面積,在AlGaN層上方左側為源端歐姆接觸金屬層,AlGaN層上方右側為漏端歐姆接觸金屬層,源端歐姆接觸金屬層和漏端歐姆接觸金屬層均與AlGaN層和GaN層相接觸,源端歐姆接觸金屬層和漏端歐姆接觸金屬層在AlGaN層和GaN層上的厚度相等且大于AlGaN層的厚度;AlGaN層上方中間為石墨烯層,石墨烯層包括第一石墨烯層、第二石墨烯層和石墨烯周期型柵肖特基接觸層,第一石墨烯層與第二石墨烯層相連且呈T形分布,第二石墨烯層與石墨烯周期型柵肖特基接觸層相連,石墨烯周期型柵肖特基接觸層由平行且均勻分布的10-100個條形石墨烯構成,石墨烯層與AlGaN層和GaN層相接觸;第一石墨烯層上設有歐姆接觸電極。
優選的,襯底為藍寶石、Si、SiC或者GaN。
優選的,源端歐姆接觸金屬層自下至上依次為Ti、Al、Ni、Au。
優選的,漏端歐姆接觸金屬層自下至上依次為Ti、Al、Ni、Au。
優選的,歐姆接觸電極采用金屬材料制成,金屬材料自下至上依次為Ti、Au。
采用上述技術方案所產生的有益效果在于:
(1)本實用新型離子激元探測器采用周期型柵結構,周期型柵采用石墨烯,而不是傳統的金屬,與金屬柵相比,減弱了金屬對太赫茲波的衰減,增加了太赫茲波的透過率,即增加了太赫茲波與二維電子氣的耦合效率;
(2)本實用新型離子激元探測器,可以實現對太赫茲波的直接、快速和靈敏檢測,可應用于太赫茲成像,通信等領域,且太赫茲探測市場廣闊,具有非常大的應用前景;
(3)本實用新型離子激元探測器成本低廉,制作工藝簡單。
附圖說明
下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明;
圖1是本實用新型的俯視圖;
圖2是圖1的A-A斷面圖;
圖中,1、源端歐姆接觸金屬層;2、AlGaN層;3、第一石墨烯層;4、歐姆接觸電極;5、第二石墨烯層;6、漏端歐姆接觸金屬層;7、石墨烯周期型柵肖特基接觸層;8、GaN層;9、AlN緩沖層;10、襯底。
具體實施方式
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





