[實用新型]隔離結構及裝載裝置有效
| 申請號: | 201420147567.7 | 申請日: | 2014-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN203894531U | 公開(公告)日: | 2014-10-22 |
| 發明(設計)人: | 毛曉峰 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/82 | 分類號: | G03F1/82 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 100176 北京市大興區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 隔離 結構 裝載 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及半導體領域,尤其涉及一種隔離結構及裝載裝置。
背景技術
光刻是通過對準、曝光等一系列步驟將光罩上的目標圖案轉移到晶圓上的工藝過程。光罩是半導體工業中的重要工具。如圖1所示,在某些制程中,光罩1需要被成批地豎直放置到其裝載裝置2上,但現有的光罩裝載裝置2僅有容置光罩的空間,并沒有設置擋板,如此一來,在后續的操作過程中,若出現某一光罩倒塌,則會帶動其他光罩倒塌,造成光罩刮傷報廢。
在光罩的清洗過程中,上述缺陷尤其明顯。裝載裝置設置在酸槽的旁邊,酸液長年累月加熱循環產生的酸霧會腐蝕其周圍的電子元件,包括裝載裝置旁邊的感應器。此感應器用來感應擺放在裝載裝置上光罩的尺寸,若因為酸霧的腐蝕導致感應器損壞,便無法準確判斷所擺放光罩的尺寸,如此,會使得機械手在抓取光罩時的抓取位置錯誤,從而導致光罩倒塌。
據此,業界曾采取一種做法,即在光罩裝載裝置上固定隔離結構以隔開每個光罩。但是,基于裝載裝置上光罩的距離較近,隔離結構易造成放置光罩時隔離結構刮傷光罩。
因此,如何避免裝載裝置上的光罩整體倒塌帶來嚴重損失,成為業界亟待解決的問題。
實用新型內容
本實用新型提供一種隔離結構,包括隔板和控制桿,所述控制桿的一端固設于所述隔板上。
可選的,所述控制桿上設置轉軸。
可選的,所述隔離結構還包括推動桿,垂直固定于所述控制桿,且位于所述轉軸與所述隔板之間,所述推動桿能夠帶動所述控制桿使所述隔板繞所述轉軸轉動。
可選的,所述隔離結構還包括一底座,所述轉軸固設于所述底座上,所述推動桿位于所述底座中的一容置空間內。
可選的,所述推動桿的一端凸出于所述底座,其上具有一把手。
可選的,所述底座包含平行所述推動桿的止擋部,以控制所述推動桿的轉動范圍。
可選的,所述控制桿平行固設于所述隔板上。
本實用新型還提供和一種裝載裝置,包含裝載臺,還包括所述的隔離結構,所述底座緊鄰所述裝載臺設置。
可選的,所述裝載臺上具有多個裝載部且彼此間隔一定間距,所述隔離結構包含多個所述隔板及控制桿,所述推動桿垂直固定于所述多個控制桿的所述轉軸與所述隔板之間,每一所述隔板正對所述間距設置。
可選的,所述隔板的一側面具有開口。
可選的,所述裝載臺為光罩裝載臺。
相比于現有技術,本實用新型采用一種可活動的隔離結構,隔板可以通過控制桿的轉動而移動。為更好地將可活動的隔離結構運用到光罩裝載中,本實用新型還提供了一種裝載裝置,用于光罩的裝載。實現了先放置好所有光罩,再推動所述把手帶動所述控制桿而使得隔板插入光罩間的間隙中,起到隔離作用,即通過隔離解決了光罩倒塌造成成批光罩損毀的問題,也有效防止了隔離板刮傷光罩。
附圖說明
圖1是本實用新型所述的光罩放置在容置空間的示意圖。
圖2是本實用新型一實施例所述隔離結構的側視圖。
圖3是本實用新型一實施例所述裝載裝置的俯視圖。
具體實施方式
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型提出的隔離結構及裝載裝置作進一步詳細說明。根據下面說明和權利要求書,本實用新型的優點和特征將更清楚。需說明的是,附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例,僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。
如圖2所示,本實施例包含隔板10和控制桿20,控制桿20的一端固設于隔板10上。具體的,可以通過鉚接的方式固定,控制桿20可帶動隔板10移動即可。控制桿20平行于隔板10所在的平面設置。控制桿20上設置轉軸30,使得控制桿20可繞著轉軸30轉動,優選的,轉軸30固定在控制桿20的另一端的端點上。
在控制桿20上還具有推動桿40,垂直固定于控制桿20,亦垂直于隔板10所在的平面。推動桿40位于轉軸30和隔板10之間,即位于控制桿20中部的位置,穿過控制桿20而與控制桿20固定。可通過推動推動桿40而帶動控制桿20繞轉軸30轉動,從而帶動隔板10的轉動。為了更方便推動所述推動桿40,在推動桿40上設置一把手41便于操作者握持并沿圖2中箭頭方向推動。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





