[實(shí)用新型]真空爐體

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420140625.3
• 申請(qǐng)日: 2014-03-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203741405U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-07-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋世源
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 宋玉琪
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/24
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 32200
• 代理人: 樓高潮

1.一種真空爐體，包括爐體本體（11），蒸發(fā)源（A），用于放置被鍍物件（B）的物件掛架（14），用于放置物件掛架（14）的并移動(dòng)該物件掛架（14）的轉(zhuǎn)盤(pán)（C）；

其特征在于，爐體本體（11）包括底板（111）、自底板（111）彎折延伸的外壁（112）、自底板（111）彎折延伸的并與外壁（112）相隔一定距離的內(nèi)壁（113）、連接外壁和內(nèi)壁的頂板和由底板（111）、外壁（112）、內(nèi)壁（113）和頂板共同圍形成密閉空間（S）；

所述爐體本體（11）還包括置于密閉空間（S）內(nèi)分別與底板（111）、外壁（112）、內(nèi)壁（113）和頂板相連的第一擋板（17）和第二擋板（18）；所述第一擋板（17）和第二擋板（18）相隔一定的距離并將所述密閉空間分隔成第一分隔空間（S1）和第二分隔空間（S2）；所述第一檔板（17）、第二擋板（18）與所述外壁（112）或內(nèi)壁（113）活動(dòng)連接；

蒸發(fā)源（A）設(shè)置于第一分隔空間（S1），物件掛架（14）和轉(zhuǎn)盤(pán)（C）設(shè)置于第二分隔空間（S2）；

在第一擋板（17）和第二檔板（18）打開(kāi)時(shí)，轉(zhuǎn)盤(pán)（C）將物件掛架（14）從第二分隔空間（S2）移動(dòng)至第一分隔空間（S1）內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空爐體，其特征在于，蒸發(fā)源（A）包括第一蒸發(fā)源（A1）和第二蒸發(fā)源（A2），

外壁（112）包括位于第一分隔空間（S1）的第一外壁和位于第二分隔空間（S2）的與第一外壁相連的第二外壁，內(nèi)壁（113）包括位于第一分隔空間（S1）的第一內(nèi)壁和位于第二分隔空間（S2）與第一內(nèi)壁相連的第二內(nèi)壁；

第一蒸發(fā)源（A1）和第二蒸發(fā)源（A2）分別設(shè)在第一外壁和第一內(nèi)壁，且第一蒸發(fā)源（A1）和第二蒸發(fā)源（A2）相對(duì)設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空爐體，其特征在于，蒸發(fā)源（A）包括蒸發(fā)靶（12）和為蒸發(fā)靶（12）提供動(dòng)力的蒸發(fā)靶源（13）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空爐體，其特征在于，爐體本體（11）的外壁設(shè)置有至少兩個(gè)門(mén)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空爐體，其特征在于，蒸發(fā)靶源（13）包括電弧靶源或平面靶源、中頻園柱靶源、直流靶源中的任一種或其任意組合。

6.一種真空爐體，其特征在于，該真空爐體包括密閉的真空室，該真空室通過(guò)擋板（D''）分隔成獨(dú)立的物件區(qū)（S2''）和靶蒸發(fā)區(qū)（S1''）；

物件區(qū)（S2''），用于放置被鍍物件（B）；

靶蒸發(fā)區(qū)（S1''），用于給被鍍物件物理氣相沉積鍍膜；

該真空爐體還包括

控制部件，用于打開(kāi)檔板（D''），將分隔的物件區(qū)（S2''）與靶蒸發(fā)區(qū)（S1''）相通；

傳送部件（C''），用于將被鍍物件從物件區(qū)（S2''）移動(dòng)至靶蒸發(fā)區(qū)（S1''）。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空爐體，其特征在于，靶蒸發(fā)區(qū)相對(duì)設(shè)置有第一蒸發(fā)源（A1''）和第二蒸發(fā)源（A2''）。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空爐體，其特征在于，第一蒸發(fā)源（A1''）和第二蒸發(fā)源（A2''）分別包括蒸發(fā)靶和為蒸發(fā)靶提供動(dòng)力的蒸發(fā)靶源；擋板（D''）包括第一擋板（17''）和第二擋板（18''）。