[實用新型]一種陶瓷鍋坯體施釉系統

有效

• 申請號: 201420133564.8
• 申請日: 2014-03-24
• 公開（公告）號: CN203878069U
• 公開（公告）日: 2014-10-15
• 發明（設計）人: 凌愷;梁文;秦志東;趙盛林;黃健
• 申請（專利權）人: 廣西北流市智宇陶瓷自動化設備有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 廣西南寧明智專利商標代理有限責任公司 45106
• 代理人: 黎明天

技術領域

本實用新型屬于一種陶瓷生產設備，尤其涉及一種對敞口陶瓷制品連續性施釉的裝置系統。

背景技術

現有敞口陶瓷坯體的施釉工藝一般采用手工上釉的方式進行，包括手工浸釉和手工噴釉兩種方式。其中手工浸釉的缺點是：其釉面厚度不均，易掛釉，表面質量欠佳，且效率非常低，工人勞動強度過大，使得成本高難以降低。除此之外，許多企業開展了自動施釉的研究，主要由以下幾種類型：

1、專利號為CN200620009582.0的一種施釉裝置，包括內設釉泵的釉漿桶、甩釉機、施釉箱、陶瓷坯件輸送裝置；施釉箱內設有施釉型腔，甩釉機的電機安裝于施釉箱的后側部、施釉芯軸的伸入施釉箱型腔內裝設甩釉盤頭；輸送裝置包括一個回轉機構、若干裝設于回轉機構上可自轉的工品支承盤，其施釉箱前部對應設有與橫向貫穿施釉型腔的回轉通道，分別置于工品支承盤上的待施釉工品在回轉機構帶動下依次繞經施釉箱回轉通道通過施釉型腔。其回轉機構帶動承托于工品支承盤上的陶瓷坯件，進入施釉型腔內的陶瓷坯件隨工品支承盤自轉，甩釉機的甩釉盤頭甩出釉料對陶瓷坯件周面進行噴涂上釉。此種裝置上釉嚴重依賴甩釉盤頭對釉水釋放的控制過程，若釉水質量稍不穩定就會對坯體釉面質量產生嚴重的影響。

2、授權公告號為CN202246453U的一種上釉裝置，屬于陶瓷表面處理的上釉技術領域。這種印刷加釉裝置，主要由加釉罐，穩壓罐，打釉泵三個部分組成。先將釉料添加至加釉罐，通過打釉泵將釉料送入穩壓罐中，再通過出料閥將釉料涂施在膠輥表面。使用這種生產過程中的印刷工序主要采用擠壓裝置對坯體進行印刷，此方法因其壓力的不穩定而影響印刷效果。

3、授權公告號為CN202054749U的適用于小件陶瓷制品的施釉機，提供了一種適用于小件陶瓷制品的施釉機，在基座上設有加熱源裝置及釉料回收吸塵裝置，在加熱源裝置的進口處及釉料回收吸塵裝置吸口處分別設有一自轉裝置，首尾閉合的公轉鏈條由傳動裝置帶動在基座上循環旋轉，在公轉鏈條上設有自轉軸裝置，自轉裝置通過摩擦力帶動自轉軸裝置旋轉，在釉料回收吸塵裝置吸口處上方設有一對放置在自轉軸裝置上的陶瓷制品進行噴釉的噴釉槍。這種施釉流程復雜，作業場地需要大，經濟效益有限。

4、授權公告號為CN201694963U的霧化直線式可控施釉裝置，屬于陶瓷磚生產用機械制造技術領域。其主要技術特點是在施釉裝置的機架上設有供漿管和環狀淋漿器，在供漿管上垂直設有霧化噴頭，環狀淋漿器的形狀是圓筒形結構，在其側面軸向設有矩形開口；在環狀淋漿器兩端下面的機架上依次固定設有調節裝置、擋板和回漿槽，供漿管的一端通過輸釉管和穩壓罐與釉漿桶相管連接，另一端設有減壓裝置。這種形式的施釉，其施釉坯體的大小受到限制，且施釉的薄厚難以控制，不適合大批量產品樣件外形多樣化的需求。

5、授權公告號為CN201485391U的日用陶瓷弧形淋釉裝置，在現有的閉環淋釉線生產線的基礎上，對淋釉器下方的輸送帶部分進行改造，使坯體在淋釉時改變坯體盤葉面與水平面的角度，特征是所述的背面淋釉器下方一段輸送帶設置有拱形皮帶導向條，拱形皮帶導向條的支架連接機架，正面淋釉器下方一段凸形皮帶設置有凹弧形皮帶導向條，凹弧形皮帶導向條的支架連接機架。這種將盤類、斗碗類產品的坯體直接放到淋釉線中施釉的方式，施釉質量受淋釉器上通孔狀態的影響，對釉水質量要求非常高，且需要經常對淋釉器進行清理，對連續大批量生產效率造成影響。

6、授權公告號為CN202379899U的一種敞口陶瓷制品自動噴釉裝置，包括機架，機架設有第一電機、兩條循環鏈條；每條循環鏈條旁邊分別安裝有一條縱向導軌，左右兩條循環鏈條之間連結有若干根水平橫桿；每根水平橫桿中央可轉動地安裝有一個用以放置陶瓷制品的工件支架；每個工件支架設有一轉軸，每個工件支架同軸固定連接有一從動輪；兩條縱向導軌上方設有噴釉箱，在噴釉箱中設有若干個噴釉單元；每個噴釉單元包括三根噴釉槍，每個噴釉單元各根噴釉槍分別固定安裝在一根轉軸上，還設有驅動各根噴釉槍轉軸轉動的噴釉槍口擺動機構；在噴釉箱下面設有傳動皮帶。這同噴釉式的施釉方式，工藝流程復雜，設備維護成果過高，其市場推廣收到影響。

綜上所述，現有技術中陶瓷坯體施釉方法過程效率不高、上釉質量差、結構復雜、工人勞動強度過大、自動化程度有待提高等缺陷，均不適用大件的陶瓷鍋坯體施釉，因此亟需對現有陶瓷鍋坯體施釉技術進行改進。

發明內容

本實用新型提供一種陶瓷鍋坯體施釉系統，使其能夠解決現有陶瓷鍋坯體手工浸釉存在的效率不高、工人勞動強度過大，不能實現連續生產的問題。