[實用新型]一種激光沉積與原位退火系統

有效

• 申請號: 201420097281.2
• 申請日: 2014-03-05
• 公開（公告）號: CN203715715U
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發明（設計）人: 陳江博;成軍;孔祥永
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28;C23C14/58
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;安利霞

1.一種激光沉積與原位退火系統，包括：

真空腔體；

第一光學組件；

靶材承載裝置和基板承載裝置，設置在所述真空腔體內；

所述真空腔體的側壁上具有第一激光入射窗口，在薄膜沉積工藝中，激光經過第一光學組件后，通過第一激光入射窗口照射到固定在所述靶材承載裝置上的靶材上，其特征在于，

所述真空腔體的側壁上還具有第二激光入射窗口；

所述系統還包括第二光學組件，在薄膜退火工藝中，激光經過第二光學組件后，通過第二激光入射窗口照射到固定在所述基板承載裝置上的基板上。

2.根據權利要求1所述的激光沉積與原位退火系統，其特征在于，所述系統還包括一激光器和一半透半反鏡；

所述激光器發出的激光照射到所述半透半反鏡上，透過所述半透半反鏡的激光經過第一光學組件后，通過第一激光入射窗口照射到固定在所述靶材承載裝置上的靶材上，被所述半透半反鏡反射的激光經過第二光學組件后，通過第二激光入射窗口照射到固定在所述基板承載裝置上的基板上。

3.根據權利要求2所述的激光沉積與原位退火系統，其特征在于，所述第一光學組件包括第一反射鏡和第一聚焦透鏡，透過所述半透半反鏡的激光經所述第一反射鏡反射至所述第一聚焦透鏡，再經過所述第一聚焦透鏡的聚焦后，通過第一激光入射窗口照射到固定在所述靶材承載裝置上的靶材上。

4.根據權利要求2所述的激光沉積與原位退火系統，其特征在于，所述第二光學組件包括光闌、第二聚焦透鏡和第二反射鏡，被所述半透半反鏡反射的激光經所述光闌整形后，經過所述第二聚焦透鏡聚焦至第二反射鏡，再經過第二反射鏡的反射后，通過第二激光入射窗口照射到固定在所述基板承載裝置上的基板上。

5.根據權利要求2所述的激光沉積與原位退火系統，其特征在于，所述激光器為準分子激光器、固體激光器或半導體激光器。

6.根據權利要求1-5任一項所述的激光沉積與原位退火系統，其特征在于，所述系統還包括氣路，用于向所述真空腔體內輸入氣體。

7.根據權利要求6所述的激光沉積與原位退火系統，其特征在于，所述氣體為氧氣、氮氣、惰性氣體、氨氣或笑氣。

8.根據權利要求1-5任一項所述的激光沉積與原位退火系統，其特征在于，所述基板承載裝置包括：

基板承載臺，設置在所述真空腔體內，用于固定基板；

第一旋轉控制裝置，設置在所述真空腔體外，通過轉軸與所述基板承載臺固定連接，用于控制所述基板承載臺旋轉。

9.根據權利要求1-5任一項所述的激光沉積與原位退火系統，其特征在于，所述靶材承載裝置包括：

靶材承載臺，設置在所述真空腔體內，用于固定靶材；

第二旋轉控制裝置，設置在所述真空腔體外，通過轉軸與所述靶材承載臺固定連接，用于控制所述靶材承載臺旋轉。