[實用新型]膨脹閥及使用該膨脹閥的制冷循環裝置

有效

• 申請號: 201420097141.5
• 申請日: 2014-03-05
• 公開（公告）號: CN203785346U
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發明（設計）人: 島津裕輔
• 申請（專利權）人: 三菱電機株式會社
• 主分類號: F25B41/06
• 分類號: F25B41/06
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 呂林紅

技術領域

本實用新型涉及具有制冷劑分配功能的膨脹閥及使用該膨脹閥的制冷循環裝置。

背景技術

在制冷循環裝置中，設置有對高壓的制冷劑進行減壓、使其變化成低壓的低干度的氣液二相狀態的膨脹閥，在膨脹閥的下游連接有蒸發器。而且，制冷劑在膨脹閥中成為氣液二相狀態，在蒸發器中，制冷劑與空氣或水熱交換，成為低壓的高干度的氣液二相狀態或過熱氣體狀態。這里，在蒸發器由以多個路徑（制冷劑流路）形成的多路換熱器構成的情況下，需要向各路徑適當地實施制冷劑分配。

以往，提出了一種膨脹閥，在膨脹閥內設置有分配器，使進行向各路徑的分配的膨脹閥和制冷劑分流器成為一體（例如參照專利文獻1）。專利文獻1公開了一種膨脹閥，具有被分隔壁分隔的閥室部和制冷劑分流室部，閥室部和制冷劑分流室部通過設置在分隔壁上的節流部連通。而且，流入膨脹閥內部的制冷劑在節流部中被減壓，并以噴霧狀態（氣液二相狀態）流入制冷劑分流室，在制冷劑分流室中，向多個分支配管的每一個分流。

專利文獻2公開了一種膨脹閥，從制冷劑流入口通過節流孔、制冷劑分流室到達制冷劑流出口，并具有調整成節流孔的開度的閥體。制冷劑流出口以節流孔為中心沿制冷劑分流室的圓周方向等間隔地配置，在比節流孔更靠下游側具有閥體，制冷劑分流室成為逐漸趨近外周側的流路。制冷劑從節流孔向制冷劑分流室膨脹的同時，通過設置在節流孔上的突狀的整流部被引導，并向制冷劑流出ロ均勻地被分流。

【現有技術文獻】

【專利文獻】

【專利文獻1】日本特開2009-24937號公報

【專利文獻2】日本特開2010-32185號公報

實用新型內容

實用新型要解決的課題

這里，剛從膨脹閥流出之后的制冷劑是噴霧流，是容易均勻地分配的狀態，但流入蒸發器的制冷劑不一定是噴霧流，有時在蒸發器入口成為例如塞狀流或彈狀流。于是，處于氣液二相狀態的制冷劑的氣液分離，存在因重力的影響不能進行向各路徑的適當的分配的情況。如專利文獻1那樣地，在制冷劑分流室中，即使從閥室部流出的制冷劑是噴霧狀態，在到達各分支配管的制冷劑分流室中，制冷劑也相互影響，發生紊流，成為不均勻的流動。若制冷劑流量充分大，則不均勻的流動與制冷劑分流室的壁面碰撞，由此，再次成為均勻的流動，在制冷劑分流室中，能夠以期望的分配比將制冷劑分配到各分支配管。但是，制冷劑流量小的情況下，碰撞的能量小，不能成為均勻的流動，存在不能向各分支配管進行適當的分配的情況。而且，在制冷（空調）負載小等的運轉條件的情況下，在膨脹閥中流動的制冷劑流量變小，從而即使在節流部中被減壓并以氣液二相狀態流入膨脹閥內，也不能成為噴霧狀態，存在不能以期望的分配比將制冷劑分配到各分支配管的情況。

另外，在專利文獻2中，使從節流孔流入制冷劑分流室的制冷劑膨脹的同時，進入在圓周方向上等間隔地設置的制冷劑流出口，但如專利文獻1那樣地，不是與壁面碰撞來均勻分配，而是通過閥體、制冷劑分流室和整流部引導的同時進行分配。但是，與專利文獻1同樣地，在到達制冷劑流出口的制冷劑分流室中，制冷劑相互影響，產生紊流，成為不均勻的流動。其結果，不能均勻地分配。另外，沒有假設反方向流動，會發生氣液二相流的情況下的制冷劑噪音。而且，不能均等分配，不能以期望的不同的比率分配。

本實用新型是為解決上述課題而做出的，其目的是提供在制冷劑分流室中能夠以期望的分配比高精度地分配制冷劑的膨脹閥及使用該膨脹閥的制冷循環裝置。

為了解決課題的技術方案

本實用新型的膨脹閥具有：主體單元，其具有被分隔壁分隔的閥室和制冷劑分流室，在分隔壁上開設連通所述閥室和所述制冷劑分流室的圓形的節流部，并且形成與所述制冷劑分流室內連通的多個分支端口；閥體，其調整所述節流部的開度；板狀的分隔部，其被配置在所述制冷劑分流室內，并按所述多個分支端口的每一個劃分出所述制冷劑分流室，所述分隔部的上緣的至少一部分在相對于所述分隔壁垂直的方向觀察下位于所述節流部的開口內。

優選地，開設了所述節流部的所述分隔壁的下表面和所述分隔部的上緣之間的最大間距比所述節流部的直徑小。

優選地，在所述分隔部的上緣，在與所述節流部相對的位置形成有凹部，所述最大間距是開設了所述節流部的所述分隔壁的下表面和所述上緣的凹部的下端之間的間距。

優選地，在所述分隔部的上緣形成板厚朝向所述節流部側變薄的錐形部。