[實用新型]光學處理系統

有效

• 申請號: 201420096365.4
• 申請日: 2014-03-04
• 公開（公告）號: CN203825362U
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發明（設計）人: 鄭博文
• 申請（專利權）人: 鄭博文
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B26/10
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

技術領域

本實用新型是有關于一種光學設備，尤其是有關于一種光學處理系統。

背景技術

隨著科技發展，印刷電路板廣泛地應用在現今的電子產品中。而電子產品現在也都朝向輕、薄、短、小及多功能的方向發展，因此相對也需要更加高密度的印刷電路板來達成。在印刷電路的密度提高的同時，印刷電路板的線寬也需要縮小，而線寬的大小是由曝光過程中通過曝光機所決定。

在現有的曝光機技術中，為了符合電子產品的演變趨勢，高電路線寬分辨率、快速量產、高對位精準度、高曝光均勻度與高可靠度皆是高端曝光設備需要具備的重要條件，但因現有使用光罩的曝光機存在于生產過程中必須進行“光罩對位”、“光罩定期清潔”等會影響產量的步驟，且存在會因光罩上微粒而在量產中產出大量不良品等問題，因此發展了無光罩式曝光機（maskless?lithography）的技術。

現有的無光罩式曝光機雖然能提供更精密的對位校準和更窄的線寬尺寸，然而對于大多數技術（例如是激光直接曝光技術）而言，其曝光速度及單位時間基板產出量都無法與傳統的采用光罩的接觸式曝光機比擬。近來還發展了通過以數字微型反射鏡元件（Digital?Micro-mirror?Device，簡稱DMD）來形成曝光圖案以提升曝光效率的無光罩式曝光機，DMD中的各單元是由一微小鏡面所組成，通過微機電芯片獨立控制各鏡面的旋轉與翻轉，以分別控制各光束的行進或遮蔽狀態，以在曝光物上產生圖案的方式來進行曝光。然而，現有技術中的各鏡面因尺度約15微米見方的微型反射鏡與微懸臂梁的結構限制下，現有技術的每個微型反射鏡的擺動時間至少需時44微秒，因此DMD中每個微型反射鏡的擺動時間及其反射率均受到相當的限制。

實用新型內容

本實用新型提供一種光學處理系統，其具有更快的光學處理速度及更好的光學處理效率。

本實用新型的實施例提供一種光學處理系統，用于在一像平面上產生一圖像圖案。光學處理系統包括至少一圖像產生單元以及一光學掃描單元。圖像產生單元包括一發光單元模塊以及一成像鏡頭。發光單元模塊用于發出一圖像光束，且包括多個非線性排列或者排成陣列的發光單元，例如發光二極管（Light?Emitting?Diode，簡稱LED）、超發光二極管（Superluminescent?Diode，簡稱SLD）、激光二極管（Laser?Diode，簡稱LD）。成像鏡頭配置于圖像光束的傳遞路徑上，且用于將圖像光束投射于像平面上。光學掃描單元配置于圖像光束的傳遞路徑上，且用于使圖像光束掃描像平面，以產生圖像圖案。

在本實用新型的一實施例中，上述的光學處理系統還包括一控制單元，其電性連接至圖像產生單元及光學掃描單元。當控制單元命令光學掃描單元將圖像光束移動至像平面的一位置時，圖像光束在像平面上的一區域產生一區域圖像，且當控制單元命令光學掃描單元將圖像光束移動至像平面的不同位置時，圖像光束在像平面上的不同區域分別產生多個區域圖像，且這些區域圖像疊合成圖像圖案。

在本實用新型的一實施例中，上述的光學掃描單元包括一第一振鏡以及一第二振鏡。第一振鏡配置于圖像光束的傳遞路徑上，且適于繞著一第一軸線擺動，第二振鏡配置于來自第一振鏡的圖像光束的傳遞路徑上，且適于繞著一第二軸線擺動。發光單元模塊中的這些發光單元為自發光式光源，由自發光式光源所發出的圖像光束通過第一振鏡與第二振鏡的擺動而改變圖像光束在像平面上的相對照射位置。

在本實用新型的一實施例中，上述的光學掃描單元包括一振鏡，其配置于圖像光束的傳遞路徑上，且適于在兩個維度上擺動。發光單元模塊中的這些發光單元為自發光式光源，由自發光式光源所發出的圖像光束通過振鏡的擺動而改變圖像光束在像平面上的相對照射位置。

在本實用新型的一實施例中，上述的光學處理系統還包括一載臺，位于像平面處，且用于承載一待處理物，載臺適于移動或通過一致動器推動載臺使圖像光束掃描像平面上的待處理物。