[實用新型]一種簡便的有機半導體真空提純裝置

有效

• 申請號: 201420070394.3
• 申請日: 2014-02-19
• 公開（公告）號: CN203724804U
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: 李曉常;劉水兵;劉建祥
• 申請（專利權）人: 江西冠能光電材料有限公司
• 主分類號: B01D7/00
• 分類號: B01D7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及有機半導體材料提純技術領域，具體涉及一種真空升華提純裝置。?

背景技術

在有機半導體材料的升華提純過程中，根據材料熔點和升華溫度與其他雜質的熔點和升華溫度的差異來對有機半導體材料進行純化，從而達到提純的目的，所以材料升華溫度的穩定性和均勻性直接影響有機半導體的提純質量。在有機半導體材料的升華過程中，由于設備以及材料本身的純度影響，并不能得知升華時的精確溫度，因此傳統的方法是通過在加熱裝置一側或者兩側開設一個長條形可視窗口并安裝透明玻璃達到保溫和觀察，通過視窗隨時了解升華情況，從而調節升華溫度。但是開設玻璃視窗對升華溫度的穩定性和均勻性都有一定影響，從而使有機半導體材料在升華過程中由于溫度的影響從而造成材料在升華過程中沉積后分布和純度均受到一定影響，最終造成材料收集時純度的不確定性從而使有機半導體材料升華質量下降，也提高了材料的生產成本。此外，在高溫情況下通過置于高溫區的玻璃視窗觀察升華情況時也存在燙傷等安全隱患。?

發明內容

針對目前有機半導體材料升華裝置中視窗存在的問題，本實用新型提供了一種使用安全方便，并在一定程度上提高整個有機半導體材料的升華質量的提純裝置的視窗結構。?

一般地本實用新型公開了一種有半導體升華提純裝置，包括一多溫區管式加熱爐；一石英玻璃管升華系統；一高真空系統；一控制系統；所述的石英玻璃管升華系統包括一石英玻璃管、一盛料舟和兩端連接法蘭；所述石英玻璃管的兩端連接法蘭包括一對視的高真空視鏡，大小為石英玻璃管內徑的10％～100％，高真空視鏡是方形、矩形、半圓形或圓形中的一種，能有效觀察石英玻璃管升華系統物料升華情況。一對視的高真空視鏡使得觀察者從任何一端都能在室內照明條件下看到另一端，一覽無余的了解有機半導體升華情況。?

在不偏離本實用新型的范圍內，所述的的多溫區加熱爐可以是電阻爐或是電感應爐等，便于管道加熱，加熱爐可為圓筒式管式加熱爐。所述的多溫區管式加熱爐含有3至7個可控溫區的開啟式或非開啟管式加熱爐。多溫區管式加熱爐不含有任何觀察窗或觀察孔，增加了管式加熱爐的溫度均勻性，減少了散熱能耗。更為適合本實用新型內容是兩個多溫區半圓開啟加熱爐，便于開啟。兩個半圓加熱爐體可采用上下開啟或是左右開啟。?開啟時可使用導軌手搖或是電動開啟。為操作方便，兩個半圓加熱爐的一邊可用軸栓連接，而另一邊可由板扣使兩個半圓加熱爐合扣成一個完整的圓筒加熱爐。當升華結束后，開啟式爐體可以打開，便于快速散熱，有利于收集提純后材料進行下一爐提純。所述的真空提純裝置含有一冷卻排風系統，如提純機上方的抽風機，或是加熱爐下方的鼓風機。?

?所述的高真空系統為一機械泵，或一機械泵和一擴散泵的組合真空系統通過一帶閥門的連接管與固定式升華管道，如連有法蘭接口的石英玻璃管相接。為了避免升華管路中易揮發成分損害真空系統，真空泵的前沿管路上可安裝冷肼。通過灌入干冰—乙醇溶液或是液氮于冷肼中，可阻止易揮發物進入真空系統。類似，在真空系統與升華管道間還可安裝一個過濾器，通過置于活性炭或分子篩，可阻止潮氣或微粉進入真空系統。冷肼及過濾器在現有的商品中一般技術員都易獲得。?

?所述的石英玻璃管升華系統包括一石英玻璃管、一盛料舟和兩端連接法蘭；所述的連接法蘭包括一高真空視鏡，大小為石英玻璃管內徑的10％～100％，從而保證有效觀察石英玻璃管升華系統物料升華情況。玻璃管升華系統一般被固定在升華管系統立架；至少一邊與真空系統相連接和至少一個系統開關閥門組成。?

在不偏離本實用新型的范圍內，為了協同控制加熱及真空系統的自鎖保護，以及記錄與數據貯存等需要，所述的升華提純裝置中含有一控制系統，如以一邏輯控制器（PLC）或是一電腦控制，可有效地完成這一任務。無論是可編程序邏輯控制器PLC或是電腦控制，附加一顯示屛能帶來直觀控制效果。?

在不偏離本實用新型的范圍內，有時為了校對或檢測升華管內，管外的溫度偏離，在所述的固定式升華管系統，通過密封用金屬法蘭安裝一前后可移動測溫熱電偶，實施升華管內各區溫度的實測。類似地，也可在所述的固定式升華管系統的密封金屬法蘭上安裝一載氣導管，便于控制有機材料升華的速率。導入的載體一般為惰性氣體，如氮氣、氬氣、氦氣中的一種或其中2～3種的混合氣體。?

在不偏離本實用新型的范圍內，所述的真空提純裝置為一套真空系統服務于兩個或多個石英玻璃管升華系統，?便于一機兩用，?提高昂貴的真空設備利用率，節省設備成本。?