[實用新型]滲濾液Fenton氧化法處理器有效
| 申請號: | 201420031048.4 | 申請日: | 2014-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN203715358U | 公開(公告)日: | 2014-07-16 |
| 發明(設計)人: | 陳昊彬;熊志乾;杜娟;吳自潤 | 申請(專利權)人: | 深圳市泰立誠環保投資有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/72 | 分類號: | C02F1/72;C02F1/32 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 518033 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 滲濾 fenton 氧化 處理器 | ||
技術領域
本實用新型涉及污水處理,尤其涉及一種滲濾液Fenton氧化法處理器。
背景技術
Fenton(芬頓)氧化是一種深度氧化技術,其主要是通過Fenton試劑(雙氧水以及亞鐵鹽的混合物)去除有機廢水中的難降解有機物,亞鐵鹽作為雙氧水氧化有機廢水中有機物的催化劑。滲濾液中含有大量的有機物,通過Fenton氧化法能夠有效地降解滲濾液中的有機物。由于Fenton氧化反應需在酸性環境中才能進行,而滲濾液自身為中性,因此在進行Fenton氧化時需將滲濾液的pH值調節為酸性,傳統的Fenton氧化處理反應器pH值調節不易控制,而且傳統的Fenton氧化處理反應器單純采用Fenton試劑中的亞鐵鹽或鐵屑作為催化劑催化雙氧水氧化滲濾液中的有機物,其對滲濾液的降解速度較慢,而在鐵屑作為催化劑時容易鈍化使得效果降低。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種滲濾液Fenton氧化法處理器,旨在用于解決現有滲濾液降解困難,降解速度較慢的問題。
為解決上述技術問題,本實用新型的技術方案是:提供一種滲濾液Fenton氧化法處理器,包括用于進行Fenton氧化反應的反應室,所述反應室內設有第一曝氣件,所述反應室具有滲濾液進口以及用于排出Fenton氧化反應后液體的出口,還包括用于向所述反應室提供所述滲濾液且調節所述滲濾液pH值為酸性的混合室,所述混合室與所述滲濾液進口連通,所述反應室內還設有用于催化Fenton氧化反應的光源。
進一步地,所述反應室內設有沿所述反應室內壁向所述反應室中間延伸的固定架,所述光源固定于所述固定架的端部上。
更進一步地,于所述反應室的內壁環設有用于反射所述光源發出光的反光層。
具體地,所述反光層為反光薄膜。
進一步地,所述光源包括豎直設置的二燈管。
具體地,所述滲濾液進口設于所述反應室的下端部,所述出口設于所述反應室的上端部;或者所述滲濾液進口設于所述反應室的上端部,所述出口設于所述反應室的下端部。
進一步地,所述混合室設有用于向所述混合室內添加酸液以使所述滲濾液呈酸性的第一進液管,所述混合室內設有用于混合均勻所述酸液與所述滲濾液的混合機構。
具體地,所述混合機構為設于所述混合室底部且用于向上曝氣的第二曝氣件。
具體地,所述混合機構包括伸入所述混合室內的攪拌器以及用于驅使所述攪拌器轉動的驅動件。
進一步地,所述反應室還連通有伸入所述反應室內且用于提供Fenton試劑的第二進液管。
本實用新型具有下列技術效果:
本實用新型的處理器包括反應室以及混合室兩部分,兩者之間連通,先將滲濾液置于混合室內,再向其內添加酸性溶液調節滲濾液pH值,攪拌均勻后使滲濾液的pH值在3-4之間滿足Fenton氧化反應的酸性條件,調節合適后滲濾液由滲濾液進口進入反應室內,向反應室內添加Fenton試劑,Fenton試劑與滲濾液中的有機化合物發生氧化反應降解。本實用新型中對于滲濾液的酸性環境調節單獨設置一混合室,可以方便滲濾液酸性環境的調節,在反應室內設有光源,可以發出紫外光,其可以起到催化Fenton氧化反應的作用,能夠降低亞鐵鹽的使用量,提高雙氧水的利用率,在反應室內還設有第一曝氣件,能夠較好地混合Fenton試劑與滲濾液,加強兩者之間的氧化效率。通過與傳統的Fenton氧化處理反應器相比,本實用新型的處理器采用了模塊化設計,對滲濾液的降解處理效率高,反應速度快,操作也比較方便。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例的滲濾液Fenton氧化法處理器的結構示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
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