[發明專利]一種工件光學測試機構

在審

• 申請號: 201410848448.9
• 申請日: 2014-12-31
• 公開（公告）號: CN104568388A
• 公開（公告）日: 2015-04-29
• 發明（設計）人: 陳億善;薄克艷
• 申請（專利權）人: 愛彼思（蘇州）自動化科技有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

技術領域

本發明涉及一種工件的光線測試機構。

背景技術

對工件進行光學性能的檢測通常需要在暗箱中進行，但人工向安置有檢測設備的暗箱中入料和下料十分浪費時間，尤其是暗箱空間較小的情況下，不利于工件的擺放定位，尤其是圓形、圓柱形等不容易固定的工件，影響檢測結果。

發明內容

一種工件光學測試機構，包括中空的暗箱，所述暗箱中設有光學測試裝置，其特征是，還包括若干傳送裝置，所述暗箱設置在傳送裝置的傳送方向上，至少有相對處于所述傳送方向上游的一側設置供工件通過的開口，并設有能夠打開和封閉所述開口的活動門。

優選的，所述傳送裝置穿過暗箱設置，且所述活動門上開設容納所述傳送裝置行進的缺口。

優選的，所述活動門上沿垂直于傳送方向的方向設有多個適應不同位置傳送裝置通行的所述缺口。

優選的，所述暗箱相對處于所述傳送方向上游和下游的兩側均設置所述開口和對應的所述活動門，暗箱中設置一氣缸同時控制兩扇所述活動門的打開和封閉。

優選的，所述傳送裝置穿過暗箱并偏向暗箱一側設置，暗箱近于傳送裝置的一側為第一側面，所述活動門通過靠近和遠離所述第一側面進行打開和封閉，且活動門面向所述第一側面的一側開設容納所述傳送裝置行進的缺口。

優選的，所述暗箱中設有限制所述活動門在氣缸驅動下行進方向的限位機構。

優選的，所述限位機構包括平行于所述氣缸軸線方向設置的導軌，以及設于活動門上與所述導軌配合的滑塊。

優選的，所述傳送裝置上至少設有兩個沿所述傳送方向排列的分別用于支撐工件的放置治具。

本發明所達到的有益效果：

1.本發明的工件光學測試機構，包括中空的設有光學測試裝置的暗箱，同時還結合了傳送裝置，使得傳送裝置可以直接將工件輸入和輸出暗箱進行上料檢測和下料，大大提高檢測效率，同時由傳送裝置運載的工件可以直接跟隨傳送裝置到達暗箱中進行檢測，無需在暗箱中另外設計定位座，免去了重新定位的麻煩，有助于提高檢測精度。另外，暗箱上對應于工件的通過開口設置活動門可以自動及時開門放行和關門開始測試，也有助于提高檢測效率和增加測量精度。

2.傳送裝置穿過暗箱設置，且活動門上開設容納傳送裝置行進的缺口，則可以最大限度保證暗箱的遮光效果，提高測量精度。尤其是垂直于傳送方向設有多個不同位置的傳送裝置時，分別設置對應的缺口。

3.暗箱相對處于傳送方向上游和下游的兩側均設置開口和對應的活動門，則工件可以沿同一方向進入和退出暗箱，而需要從同一入口折返，簡化結構，縮短相應工件的間隔檢測時間，流水線工作更加順暢。尤其是暗箱中設置一氣缸同時控制兩扇活動門的打開和封閉，則同步對上游的工件開放入口，和對一個下游相鄰的且已經在暗箱中測試完畢的工件開放出口，則最為節約時間，提高效率。

4.缺口設置在活動門上，則活動門尺寸的設計受傳送裝置排布的影響相對較小，活動門可以設置的較大，方便工件的通過。同時傳送裝置偏向暗箱一側設置，則缺口可以設置的較小，進一步減小從縫隙中射入暗箱的光線量。

5.暗箱中設置輔助氣缸限的限位機構則可以提高制活動門開閉的穩定性，防止關閉時歪斜，保證密封性。

6.限位機構以導軌和滑塊的配合結構實現，結構簡單，性能穩定。

7.傳送裝置上設置至少兩個用于支撐工件的放置治具，則在保持支撐穩定的基礎上有利于節省治具數量。

附圖說明

圖1是本發明優選實施例的示意圖；

圖2是圖1所示局部A的放大示意圖；

圖3是本發明優選實施例中暗箱的內部結構圖；

圖4是本發明優選實施例中放置治具的凹槽部位的俯視圖；

其中：1、燈管，12、引腳，2、傳送裝置，22、鏈條，24、鏈輪，3、放置治具，32、底座，322、凹槽，42、暗箱，422、面板，424、第一側面，44、色溫計，45、限位機構，452、導軌，46、活動門，462、缺口，47、氣缸，472、活塞，48、連接板，482、滑塊，484、條形槽，486、限位件。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本發明的技術方案，而不能以此來限制本發明的保護范圍。