[發明專利]一種線狀可彎曲太陽能電池及其制備方法有效
| 申請號: | 201410794801.X | 申請日: | 2014-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN104465842A | 公開(公告)日: | 2015-03-25 |
| 發明(設計)人: | 黃瀛;沈曉明;何歡;符躍春;韋小鳳;覃嘉媛 | 申請(專利權)人: | 廣西大學 |
| 主分類號: | H01L31/054 | 分類號: | H01L31/054;H01L31/0264;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣西南寧公平專利事務所有限責任公司 45104 | 代理人: | 黃永校 |
| 地址: | 530004 廣西壯族*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 線狀 彎曲 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種線狀可彎曲太陽能電池,其特征在于,由里向外依次為光纖、透明導電薄膜、ZnO納米線陣列膜、光活性聚合物層以及金屬層。
2.如權利要求1所述的線狀可彎曲太陽能電池,其特征在于,所述的光纖為石英光纖或者塑料光纖,直徑為100nm~1500nm。
3.如權利要求1所述的線狀可彎曲太陽能電池,其特征在于,所述的透明導電薄膜為AZO薄膜,厚度為100~1000nm。
4.如權利要求1所述的線狀可彎曲太陽能電池,其特征在于,所述的ZnO納米線陣列膜的厚度為200~1500nm。
5.如權利要求1所述的線狀可彎曲太陽能電池,其特征在于,所述的光活性聚合物層為P3HT:PCBM或PEDOT:PSS,厚度為200~1000nm。
6.如權利要求1所述的線狀可彎曲太陽能電池,其特征在于,所述的金屬層為Al、Ag、Au、Ca或Li,厚度為10~200nm。
7.一種線狀可彎曲太陽能電池的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
7.1采用無電沉積法在光纖表面生長AZO薄膜;
(1)將光纖置于丙酮超聲波清洗5~10min,再置于去離子水中超聲波清洗5~10min,
(2)依次浸入含有20~60g/L?SnCl2、0.5~2g/L[Ag(NH3)2]OH和0.1~0.3g/L?PdCl2的活化溶液中各5~10min,使得Pd粒子吸附在光纖上,得到活化光纖;
(3)將活化光纖再浸入含有0.01~0.1mol/L?Zn(NO3)2、0.0005~0.005mol/L?Al(NO3)3和0.01~0.03mol/L二甲氨基硼烷的生長溶液中,生長溶液溫度為70~90℃,浸入時間為1.5~3h,然后取出用去離子水沖洗,在室溫下晾干,得到覆AZO薄膜光纖;
7.2采用水熱法在覆AZO薄膜光纖表面生長ZnO納米線陣列膜;
將所述覆AZO薄膜光纖置于含有10~30mmol/L?Zn(NO3)2、10~30mmol/L六亞甲基四胺和3~10mmol/L聚乙烯亞胺的混合溶液中,混合溶液的溫度為80~100℃,反應時間為15~25h,然后取出用去離子水清洗,再在N2氣流中干燥,得到覆ZnO納米線陣列膜光纖;
7.3采用浸涂法在覆ZnO納米線陣列膜光纖表面制備P3HT:PCBM層;
將覆ZnO納米線陣列膜光纖浸入溫度為80~120℃的浸涂溶液中,攪拌2~3h后取出,待溶劑揮發,得到覆P3HT:PCBM層光纖;所述浸涂溶液為P3HT和PCBM的二氯苯溶液,在浸涂溶液中,P3HT的濃度為5~30mg/mL,PCBM的濃度為5~30mg/mL;
7.4采用熱蒸發法在覆P3HT:PCBM層光纖表面蒸鍍Al、Ag、Au、Ca或Li金屬層;工藝參數如下:轟擊電流為0.5~1A,襯底溫度為25~50℃,真空度為1~5×10-4pa,蒸鍍時間2~5min,得到線狀可彎曲太陽能電池。
8.如權利要求7所述的線狀可彎曲太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述浸涂法得到的P3HT:PCBM層厚度為200~500nm。
9.如權利要求7所述的線狀可彎曲太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述熱蒸發法得到的金屬層厚度為10~50nm。
10.如權利要求7所述的線狀可彎曲太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述水熱法得到的ZnO納米線陣列膜厚度為500~1000nm。
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