[發(fā)明專利]光學(xué)器件及其制造方法和母板的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410789625.0
• 申請日: 2010-08-26
• 公開（公告）號: CN104536065B
• 公開（公告）日: 2017-08-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 遠(yuǎn)藤惣銘;林部和彌
• 申請（專利權(quán)）人: 迪睿合電子材料有限公司
• 主分類號: G02B1/118
• 分類號: G02B1/118;G03F7/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 何欣亭,姜甜

本申請是如下專利申請的分案申請：

發(fā)明名稱：光學(xué)器件及其制造方法和母板的制造方法；申請日：2010年8月26日；申請?zhí)枺?01010265401.1。

相關(guān)申請的參考

本發(fā)明包含于2009年9月2日向日本專利局提交的日本優(yōu)先權(quán)專利申請JP2009-203179的主題，將其全部內(nèi)容結(jié)合于此，作為參考。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)器件及其制造方法、以及在光學(xué)器件中使用的母板的制造方法，具體而言，涉及具有在其上以等于或小于可見光波長的微小節(jié)距配置通過凸部或凹部所形成的多個結(jié)構(gòu)體的表面的光學(xué)器件。

背景技術(shù)

通常，在使用由玻璃、塑料等構(gòu)成的透明基板的一些光學(xué)器件中，執(zhí)行表面處理，從而抑制光線的表面反射。作為這種類型的表面處理，存在在光學(xué)器件的表面上形成微小致密的凹凸(蛾眼)的處理(例如，見“Optical and Electro-Optical Engineering Contact”，Vol.43，No.11(2005)，p 630-637)。

通常，在周期性凹凸形狀被配置在光學(xué)器件的表面上的情況下，當(dāng)光透射通過凹凸形狀時，發(fā)生衍射。因此，透射光的直線傳播組分大量減少。但是，在凹凸形狀的節(jié)距小于透射光的波長的情況下，不發(fā)生衍射。因此，例如，如隨后所述，當(dāng)凹凸形狀形成為矩形形狀時，對于相應(yīng)于節(jié)距、深度等的單一波長的光能夠獲取有效的防反射效果。

作為通過使用電子束曝光所制備的蛾眼結(jié)構(gòu)，披露了具有微小帳篷形狀的蛾眼結(jié)構(gòu)(節(jié)距：約為300nm；深度：約為400nm)(例如，見網(wǎng)上NTT Advanced Technology Corporation“Molding Die Master for Antireflection Bodies(Moth Eye)That Do Not Have Dependency on the Wavelength”，2008年2月27日檢索，網(wǎng)址http://keytech.ntt-at.co.jp/nano/prd_0033.html)。根據(jù)這種蛾眼結(jié)構(gòu)，能夠獲取具有等于或小于1％的反射率的高性能的防反射特性。

發(fā)明內(nèi)容

但是，近來，為了改進(jìn)諸如液晶顯示裝置的各種顯示裝置的可視性，期望實現(xiàn)更好的防反射特性。另外，在CCD(電荷耦合器件)圖像傳感器件、CMOS(互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)圖像傳感器件、光電二極管(PD)等的封裝件中，使用蓋玻片。因此，也期望改進(jìn)蓋玻片的防反射特性。

期望提供一種具有優(yōu)異的防反射特性的光學(xué)器件及其制造方法、及在該光學(xué)器件中使用的母板的制造方法。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，提供了一種具有防反射功能的光學(xué)器件。該光學(xué)器件包括：基底；以及多個結(jié)構(gòu)體，由凸部或凹部構(gòu)成，以等于或小于可見光波長的微小節(jié)距配置在基底的表面上。多個結(jié)構(gòu)體被配置為在基底表面上形成多列軌跡，并形成準(zhǔn)六方點陣圖案、四方點陣圖案或準(zhǔn)四方點陣圖案，并且結(jié)構(gòu)體對基底表面的填充率等于或高于65％。

根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式，提供了一種具有防反射功能的光學(xué)器件。該光學(xué)器件包括：基底；以及多個結(jié)構(gòu)體，由凸部或凹部構(gòu)成，以等于或小于可見光波長的微小節(jié)距配置在基底的表面上。多個結(jié)構(gòu)體被配置為在基底表面上形成多列軌跡，并形成準(zhǔn)六方點陣圖案，并且當(dāng)同一軌跡內(nèi)的多個結(jié)構(gòu)體的配置節(jié)距為P1并且結(jié)構(gòu)體的底面在軌跡方向上的直徑為2r時，直徑2r與配置節(jié)距P1的比率((2r/P1)×100)等于或高于85％。

根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式，提供了一種具有防反射功能的光學(xué)器件。該光學(xué)器件包括：基底；以及多個結(jié)構(gòu)體，由凸部或凹部構(gòu)成，以等于或小于可見光波長的微小節(jié)距配置在基底的表面上。

多個結(jié)構(gòu)體被配置為在基底表面上形成多列軌跡，并形成四方點陣圖案或準(zhǔn)四方點陣圖案，并且當(dāng)同一軌跡內(nèi)的多個結(jié)構(gòu)體的配置節(jié)距為P1并且結(jié)構(gòu)體的底面在軌跡方向上的直徑為2r時，直徑2r與配置節(jié)距P1的比率((2r/P1)×100)等于或高于90％。