[發(fā)明專利]一種微透鏡陣列制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410767693.7 | 申請日： | 2014-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN104503007A | 公開（公告）日： | 2015-04-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 龍岡 | 申請（專利權(quán)）人： | 成都納光科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B3/00 | 分類號： | G02B3/00;G02B1/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京輕創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11212 | 代理人： | 楊立 |
| 地址： | 610207四川省成都市*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 透鏡 陣列 制備 方法 | ||
1.一種微透鏡陣列制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)制作目標(biāo)結(jié)構(gòu)掩模板；
2)將基板清洗干凈，并在所述基板上涂覆一層光刻膠；
3)將步驟1)制作的目標(biāo)結(jié)構(gòu)掩模板轉(zhuǎn)印到步驟2)所述的基板上，得到光刻膠圖形模板；
4)將步驟3)得到的光刻膠圖形模板加熱，得到光刻膠微透鏡陣列模板；
5)將步驟4)得到的光刻膠微透鏡陣列模板進(jìn)行刻蝕；
6)去除光刻膠，得到所述微透鏡陣列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種微透鏡陣列制備方法，其特征在于，所述基板的材質(zhì)為藍(lán)寶石玻璃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種微透鏡陣列制備方法，其特征在于，步驟1)中，所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)掩模板采用激光直寫機(jī)或電子束直寫機(jī)制作。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種微透鏡陣列制備方法，其特征在于，步驟3)中，所述轉(zhuǎn)印方法為利用光刻技術(shù)把目標(biāo)結(jié)構(gòu)掩模板圖形轉(zhuǎn)印到基板上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種微透鏡陣列制備方法，其特征在于，步驟4)中，所述加熱溫度為120℃-140℃，加熱時間為5-10min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種微透鏡陣列制備方法，其特征在于，步驟5)中，所述刻蝕方法為采用離子束刻蝕機(jī)對所述光刻膠微透鏡陣列模板進(jìn)行離子束刻蝕。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述一種微透鏡陣列制備方法，其特征在于，步驟6)中，所述去除光刻膠方法為采用氧離子完全去除光刻膠。
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