[發(fā)明專利]一種疊層太陽(yáng)能電池的制備方法及其結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410758787.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105742402B | 公開(公告)日: | 2017-12-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓安軍;張慶釗;彭東陽(yáng);顧世海;李琳琳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京漢能創(chuàng)昱科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;H01L31/02;H01L31/078 |
| 代理公司: | 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11250 | 代理人: | 彭秀麗,尹學(xué)清 |
| 地址: | 102209 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 太陽(yáng)能電池 制備 方法 及其 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種疊層太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,具體包括如下步驟:
步驟一、采用P型單晶硅片制備太陽(yáng)能電池;
步驟二、在襯底上制備背電極層;
步驟三、在背電極層上制備犧牲層,所述犧牲層為NaF層;
步驟四、在犧牲層上制備CIGS薄膜太陽(yáng)能電池;
步驟五、采用熱蒸發(fā)或?yàn)R射的方法,分別在單晶硅電池的P型硅層和CIGS薄膜太陽(yáng)能電池的窗口層上沉積金屬鍵合層;
步驟六、將制備好的單晶硅電池上的金屬鍵合層與CIGS薄膜太陽(yáng)能電池上的金屬鍵合層進(jìn)行金屬鍵合;
步驟七、將鍵合后的單晶硅/CI GS疊層電池在常溫下進(jìn)行所述襯底和背電極層的剝離;
步驟八、在單晶硅電池的N+硅層上沉積金屬電極;
步驟九、在CIGS薄膜太陽(yáng)能電池表面制備柵線電極;
步驟十、采用蒸發(fā)法在疊層電池的上表面制備抗反射層,即得單晶硅/CI GS疊層太陽(yáng)能電池。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的疊層太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,所述步驟五中的金屬鍵合層為厚度0.1-10nm的金錫合金層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的疊層太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,所述步驟六中的將制備好的單晶硅電池上的金屬鍵合層與CIGS薄膜太陽(yáng)能電池上的金屬鍵合層進(jìn)行金屬鍵合,其具體方法是:
在氮?dú)猸h(huán)境下,將制備好的單晶硅電池的金屬鍵合層與CIGS薄膜太陽(yáng)能電池上的金屬鍵合層進(jìn)行對(duì)準(zhǔn),在壓力5N-50000N,加熱300℃-500℃下,保持10mi n-120mi n,使單晶硅電池與CIGS薄膜太陽(yáng)能電池通過(guò)金屬鍵合層進(jìn)行金屬鍵合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的疊層太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,
步驟七中的將鍵合后的單晶硅/CIGS疊層電池在常溫下進(jìn)行剝離,其具體方法是:將鍵合后的單晶硅/CIGS疊層電池在常溫下進(jìn)行機(jī)械剝離或浸入水中溶解犧牲層,使CIGS薄膜太陽(yáng)能電池在犧牲層處與背電極層分離。
5.一種疊層太陽(yáng)能電池,依次包括底電池、金屬鍵合層、頂電池和電極,其特征在于,所述底電池為單晶硅電池,所述頂電池為銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽(yáng)能電池,所述金屬鍵合層設(shè)置于所述頂電池與所述底電池之間;所述銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽(yáng)能電池包括CIGS吸收層、CdS緩沖層和窗口層,所述單晶硅電池包括P型硅層和N+硅層,所述金屬鍵合層與所述單晶硅電池的P型硅層及銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽(yáng)能電池的窗口層相結(jié)合。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的疊層太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述的金屬鍵合層為金錫合金層,其厚度為0.1-10nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的疊層太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述金錫合金層的厚度為5nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的疊層太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述窗口層包括本征窗口層和導(dǎo)電窗口層,所述本征窗口層厚度為30nm-100nm,所述導(dǎo)電窗口層厚度為200nm-1500nm。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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