[發明專利]顯示裝置在審
| 申請號: | 201410728357.1 | 申請日: | 2014-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN104698670A | 公開(公告)日: | 2015-06-10 |
| 發明(設計)人: | 宮永直季;飯塚哲也;安藤雅德 | 申請(專利權)人: | 株式會社日本顯示器 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿軍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,具備第1基板以及與上述第1基板對置配置的第2基板,
上述第1基板具備:
第1遮光層;
第2遮光層,與上述第1遮光部分離,與上述第1遮光層為不同形狀;
第1半導體層,與上述第1遮光層交叉;
第2半導體層,與上述第2遮光層交叉;
柵極布線,在第1方向上延伸,與上述第1遮光層對置,與上述第1半導體層交叉,并且與上述第2遮光層對置,與上述第2半導體層交叉;
第1源極布線,在第2方向上延伸,與上述第1遮光層對置;
第2源極布線,在第2方向上延伸,與上述第2遮光層對置;
開關元件,與上述柵極布線以及上述第1源極布線電連接;以及
像素電極,與上述開關元件電連接,與上述第1遮光層以及上述第2遮光層對置,
上述第1遮光層與上述像素電極對置的面積,和上述第2遮光層與上述像素電極對置的面積相等。
2.根據權利要求1記載的顯示裝置,
上述第1遮光層與上述柵極布線對置的面積,和上述第2遮光層與上述柵極布線對置的面積相等。
3.根據權利要求1記載的顯示裝置,
上述第1遮光層與上述第1源極布線對置的面積,和上述第2遮光層與上述第2源極布線對置的面積相等。
4.根據權利要求1記載的顯示裝置,
還具備柱狀間隔物,配置于與上述第1遮光層重疊的位置,保持上述第1基板與上述第2基板之間的單元間隙。
5.根據權利要求1記載的顯示裝置,
上述第1遮光層以及上述第2遮光層由具有遮光性的金屬材料形成。
6.根據權利要求1記載的顯示裝置,
上述第1遮光層的設置面積比上述第2遮光層的設置面積大。
7.一種顯示裝置,具備第1基板以及與上述第1基板對置配置的第2基板,
上述第1基板具備:
第1絕緣基板;
第1遮光層,位于上述第1絕緣基板上;
第2遮光層,位于上述第1絕緣基板上,從上述第1遮光層離開,與上述第1遮光層為不同形狀;
第1絕緣膜,覆蓋上述第1遮光層以及上述第2遮光層;
第1半導體層,位于上述第1絕緣膜上,與上述第1遮光層交叉;
第2半導體層,位于上述第1絕緣膜上,與上述第2遮光層交叉;
第2絕緣膜,覆蓋上述第1半導體層以及上述第2半導體層;
柵極布線,位于上述第2絕緣膜上,在第1方向上延伸,與上述第1遮光層對置,與上述第1半導體層交叉,并且與上述第2遮光層對置,與上述第2半導體層交叉;
第3絕緣膜,覆蓋上述柵極布線;
第1源極布線,位于上述第3絕緣膜上,與上述第1半導體層的一端側接觸,在第2方向上延伸,與上述第1遮光層對置;
漏極電極,位于上述第3絕緣膜上,與上述第1半導體層的另一端側接觸;
第2源極布線,位于上述第3絕緣層上,在第2方向上延伸,與上述第2遮光層對置;
第4絕緣膜,覆蓋上述第1源極布線、上述漏極電極以及上述第2源極布線;以及
像素電極,位于上述第4絕緣膜上,與上述漏極電極接觸,與上述第1遮光層以及上述第2遮光層對置,
上述第1遮光層與上述像素電極對置的面積,和上述第2遮光層與上述像素電極對置的面積相等。
8.根據權利要求7記載的顯示裝置,
上述第1遮光層與上述柵極布線對置的面積,和上述第2遮光層與上述柵極布線對置的面積相等。
9.根據權利要求7記載的顯示裝置,
上述第1遮光層與上述第1源極布線對置的面積,和上述第2遮光層與上述第2源極布線對置的面積相等。
10.根據權利要求7記載的顯示裝置,
還具備柱狀間隔物,配置于與上述第1遮光層重疊的位置,保持上述第1基板與上述第2基板之間的單元間隙。
11.根據權利要求7記載的顯示裝置,
上述第1遮光層以及上述第2遮光層由具有遮光性的金屬材料形成。
12.根據權利要求7記載的顯示裝置,
上述第1遮光層的設置面積比上述第2遮光層的設置面積大。
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