[發明專利]一種極微細鍍鎳銅合金絲及其制作方法

在審

• 申請號: 201410727136.2
• 申請日: 2014-12-04
• 公開（公告）號: CN104465587A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 程平;李明;鄭東風
• 申請（專利權）人: 安徽華晶微電子材料科技有限公司
• 主分類號: H01L23/49
• 分類號: H01L23/49;H01L21/48;C23F17/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種極微細鍍鎳銅合金絲，其特征在于，包括極微細銅絲，所述極微細銅絲外設有一層鎳膜層，所述極微細銅絲是以高純銅為主體，添加改性元素熔煉而成。

2.根據權利要求1所述的極微細鍍鎳銅合金絲，其特征在于，所述高純銅添加以下含量的改性元素：5-300ppm?Ca，10-100ppm?P，10-500ppm?Ag，10-500ppm?Au，5-100ppm?Y，5-100ppm?Zr，10-100ppm?In。

3.根據權利要求2所述的極微細鍍鎳銅合金絲，其特征在于，所述高純銅添加以下含量的改性元素：100ppm?Ca，50ppm?P，20ppm?Ag，20ppm?Au，10ppm?Y，10ppmZr，5ppm?In。

4.根據權利要求1所述的極微細鍍鎳銅合金絲，其特征在于，所述極微細銅絲的直徑為0.016mm-0.018mm，所述鎳膜層的厚度為120-180nm。

5.根據權利要求1所述的極微細鍍鎳銅合金絲，其特征在于，所述高純銅的純度為99.?9999%。

6.一種權利要求1至5之一所述的極微細鍍鎳銅合金絲的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）銅材提純：以市售1號純銅為原料，使用電解-熔煉，再電解-再熔煉的反復提純工藝，使銅的S、Ag、Se、Si、Mg、Te等雜質總含量控制在50ppm以下，得到純度達為99.?9999%的高純銅；

（2）制備中間合金體：取步驟（1）得到的高純銅1000克，加入1000ppmCa、500ppmP、200ppmAg、200ppmAu、100ppmY、100ppmZr、50ppmIn的改性元素，分別放入熔煉爐中熔煉成相應的中間合金體；

（3）連鑄單晶銅棒：將步驟（1）得到的高純銅和步驟（2）得到的中間合金體按各種成分的最終含量計算所需的量一起放置于連鑄爐內，經真空熔煉、定向凝固、拉鑄成8mm單晶銅棒；

（4）拉拔絲材：將步驟（3）得到的8mm單晶銅棒經過粗拉、中拉、細拉、微細拉、極微細拉拉拔成?0.016mm-0.018mm的極微細銅絲；

（5）清洗退火：將步驟（4）得到的極微細銅絲進行清洗、退火、風干，備鍍覆用；

（6）真空鍍鎳：將退火后的極微細銅絲繞于6英寸鋁軸上，每卷20000米，置于真空鍍膜設備的繞線軸上，以4Pa/15min的速度抽真空至5×10^-2Pa，啟動離子專用電源，按膜厚120-180nm，設定5m/min的繞線速度，將極微細銅絲鍍覆鎳膜層。

7.根據權利要求6所述的極微細鍍鎳銅合金絲的制作方法，其特征在于，還包括以下步驟：

（7）復繞分卷：根據不同用途復繞分巻，包裝。