[發明專利]一種非晶態光學薄膜微區應力的測量方法有效
| 申請號: | 201410717404.2 | 申請日: | 2014-12-02 |
| 公開(公告)號: | CN104568248A | 公開(公告)日: | 2015-04-29 |
| 發明(設計)人: | 季一勤;劉華松;劉丹丹;姜承慧;王利栓;楊霄;孫鵬;冷健 | 申請(專利權)人: | 中國航天科工集團第三研究院第八三五八研究所 |
| 主分類號: | G01L1/24 | 分類號: | G01L1/24 |
| 代理公司: | 中國兵器工業集團公司專利中心 11011 | 代理人: | 劉東升 |
| 地址: | 300308 天津市*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶態 光學薄膜 應力 測量方法 | ||
1.一種非晶態光學薄膜微區應力的測量方法,其特征在于,其包括如下步驟:
步驟S1:建立薄膜材料應力雙折射x-y-z坐標系物理模型,其中,x-y平面為薄膜表面,z軸垂直于薄膜表面,沿x軸的nx、沿y軸的ny、沿z軸的nz分別表示三個方向的折射率,沿x軸的σx、沿y軸的σy、沿z軸的σz分別表示三個方向的主軸應力;
步驟S2:首先利用橢圓偏振儀測量薄膜的反射橢圓偏振參數Ψ(λ)和Δ(λ),設定測量波長范圍為λmin-λmax,測量步長為Δλ,λmin和λmax的取值在薄膜材料的透明區域內,入射角度為θ;
步驟S3:對薄膜材料建立單軸折射率方程,建立光在平面單軸晶體內部傳輸的物理模型和數學計算模型,令nx=ny=n;
步驟S4:薄膜-基底的反射橢圓偏振參數由薄膜和基底的折射率、薄膜的厚度df、入射角度θ共同確定,使用非線性優化算法,對測量的反射橢偏參數進行反演計算,當測量數據與理論計算的數據基本一致時,可認為反演計算成功;因此提前設定薄膜反演計算的評價函數如下:
其中,MSE是測量值與理論模型計算值的均方差,N為測量波長的數目,M為變量個數,ψiexp和Δiexp分別為i個波長的測量值,ψimod和Δimod分別為i個波長的計算值,δψ,iexp和δΔ,imod分別為i個波長的測量誤差;從公式(1)中可以看出,MSE被測量誤差加權,所以噪音大的數據被忽略掉,MSE越小表示擬合得越好;
通過上述反演計算可以得到薄膜材料的x-y方向折射率n與z方向折射率nz的折射率差Δn,同時得到薄膜的物理厚度df;
步驟S5:得到薄膜z方向與x-y平面的率差Δn后,利用公式(2)就可以得到薄膜材料的微區應力σ;
其中,σ為薄膜材料微區應力,B為薄膜的應力光學系數。
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