[發(fā)明專利]一種離子注入機的預(yù)處理方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410710134.2 | 申請日： | 2014-11-28 |
| 公開（公告）號： | CN104465292A | 公開（公告）日： | 2015-03-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 余德欽;邱裕明;肖天金 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人： | 吳俊 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 離子 注入 預(yù)處理 方法 | ||
1.一種離子注入機的預(yù)處理方法，其特征在于，包括兩個預(yù)處理階段；
在第一預(yù)處理階段，向所述離子注入機的離子源反應(yīng)室通入一預(yù)處理氣體，對所述離子源反應(yīng)室進行清洗處理；
在第二預(yù)處理階段，將離子源能量調(diào)節(jié)至50keV，終端電壓調(diào)節(jié)至10kV，以產(chǎn)生預(yù)設(shè)束流，使所述預(yù)設(shè)束流沿著離子注入機的束流通道射出，用于對所述離子注入機進行清洗處理。
2.如權(quán)利要求1所述的離子注入機的預(yù)處理方法，其特征在于，所述預(yù)處理氣體采用二氟化硼。
3.如權(quán)利要求1所述的離子注入機的預(yù)處理方法，其特征在于，所述第一預(yù)處理階段消耗的時間在5min至10min之間。
4.如權(quán)利要求1所述的離子注入機的預(yù)處理方法，其特征在于，所述第二預(yù)處理階段消耗的時間在2min至5min之間。
5.如權(quán)利要求1所述的離子注入機的預(yù)處理方法，其特征在于，所述離子注入機的起電弧電流為5A。
6.如權(quán)利要求1所述的離子注入機的預(yù)處理方法，其特征在于，所述離子注入機的起電弧電壓為110V。
7.如權(quán)利要求1所述的離子注入機的預(yù)處理方法，其特征在于，在所述第一預(yù)處理階段之前需關(guān)閉所述離子源能量和所述終端電壓。
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