[發明專利]曝光裝置和器件制造方法在審
| 申請號： | 201410683379.0 | 申請日： | 2014-11-25 |
| 公開（公告）號： | CN104678713A | 公開（公告）日： | 2015-06-03 |
| 發明（設計）人： | 松岡洋一 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 林振波 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 曝光 裝置 器件 制造 方法 | ||
1.一種曝光裝置，其在液體填充在投影光學系統和基板之間的同時對基板曝光，該曝光裝置包括：
測量部件，布置在保持基板的基板臺上，并處于基板臺的基板保持表面側；
輔助部件，布置在基板臺的基板保持表面側，并與測量部件有一定間隙；以及
密封部件，接觸輔助部件的表面，布置成覆蓋所述間隙，并用于抑制測量部件的表面或輔助部件的表面上的液體滲透到間隙中，
其中，密封部件具有形成一空間的形狀，在該空間中，在液體處于測量部件的表面上且液體接觸密封部件的邊緣的同時，測量部件的一部分表面接觸氣體。
2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中，密封部件包括第一切口結構，第一切口結構從密封部件的邊緣連通到所述間隙以使氣體與液體接觸。
3.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中，密封部件還包括設在接觸液體的表面上的第一防水部，該第一防水部包括第二切口結構，第二切口結構用于使氣體從輔助部件的表面側通過并使氣體與液體接觸。
4.一種曝光裝置，其在液體填充在投影光學系統和基板之間的同時對基板曝光，該曝光裝置包括：
測量部件，布置在保持基板的基板臺上，并處于基板臺的基板保持表面側；
輔助部件，布置在基板臺的基板保持表面側，并與測量部件有一定間隙；以及
密封部件，接觸輔助部件的表面，布置成覆蓋所述間隙，并用于抑制測量部件的表面或輔助部件的表面上的液體滲透到間隙中，
其中，密封部件包括：
附著到測量部件的表面上的固定部件，和
第二防水部，用于抑制固定部件和測量部件表面上的液體之間的接觸。
5.根據權利要求4所述的曝光裝置，其中，第二防水部是具有60度以上后退接觸角的粘合劑。
6.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中，測量部件是用于測量位置的測量板或用于測量曝光光線照度的光傳感器。
7.一種曝光裝置，其在液體填充在投影光學系統和基板之間的同時對基板曝光，該曝光裝置包括：
測量部件，布置在保持基板的基板臺上；
輔助部件，布置在基板臺上，并與測量部件有一定間隙；
密封部件，接觸輔助部件的表面，并布置成覆蓋所述間隙，
其中，密封部件包括粘合劑層，并且密封部件具有在測量部件側的邊緣處的切口結構，切口結構用于在液體處于測量部件上的同時使粘合劑層的一部分與氣體接觸。
8.一種器件制造方法，包括：
使用根據權利要求1的曝光裝置對基板曝光；和
對曝光的基板顯影。
9.一種器件制造方法，包括：
使用根據權利要求4的曝光裝置對基板曝光；和
對曝光的基板顯影。
10.一種器件制造方法，包括：
使用根據權利要求7的曝光裝置對基板曝光；和
對曝光的基板顯影。
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