[發明專利]紅外焦平面陣列動態盲元處理方法及裝置在審
| 申請號: | 201410681305.3 | 申請日: | 2014-11-24 |
| 公開(公告)號: | CN104330167A | 公開(公告)日: | 2015-02-04 |
| 發明(設計)人: | 陳剛;姜江輝;鐘慶;葉麗婷 | 申請(專利權)人: | 浙江大立科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01J5/02 | 分類號: | G01J5/02 |
| 代理公司: | 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 孫佳胤 |
| 地址: | 310053 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 紅外 平面 陣列 動態 處理 方法 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及盲元檢測技術領域,尤其涉及一種紅外成像系統中的動態盲元處理方法及裝置。
背景技術
在紅外成像系統中,紅外焦平面陣列由于制造技術、工藝和材料的原因,存在一定的非均勻性,有時甚至是完全失效的單元,這些失效單元稱為盲元。以紅外焦平面陣列對黑體輻射的響應程度作為量化標準,盲元包括死像元和過熱像元。國標中定義:死像元為像元響應率小于1/10平均響應率的像元;過熱像元為像元噪聲電壓大于平均噪聲電壓10倍的像元。盲元的存在減低了圖像質量,對紅外圖像有較大的影響,因此在紅外成像系統中必須加以糾正。
對盲元的處理包括兩個方面:盲元的檢測以及盲元的補償。通過盲元檢測,確定盲元所處的具體位置;而后,通過盲元補償算法對盲元進行補償。現有的盲元檢測有采用噪聲法:對于焦平面成像過程中的噪聲,采用統計方法——多幀累加取平均值的方法進行處理;如果某個像元是盲元,其平均值一般與其他的像元存在很大的差別,可以利用這一點來檢測焦平面的盲元。現有的采用噪聲法進行盲元檢測的前提條件是:檢測時所獲取的圖像為平面均勻場,且盲元檢測是以非均勻校正為基礎的。
采用上述方法只可以檢測出圖像中的明顯盲元,對于部分視覺可見的盲元,上述方法無法將其檢測出來,也就無法對盲元進行有效的校正。
因此,需要提供一種動態盲元處理方法,可以檢測出視覺可見的盲元,并在圖像處理過程中實現實時快速的盲元處理,改善紅外圖像的成像質量。
發明內容
本發明的目的在于,針對現有技術中盲元的檢測無法檢測出部分視覺可見的盲元、無法對盲元進行實時、有效的校正的接收問題,提供一種紅外焦平面陣列動態盲元處理方法及裝置,可以檢測出視覺可見的盲元,并在圖像處理過程中實現實時快速的盲元處理,改善紅外圖像的成像質量。
為實現上述目的,本發明提供了一種紅外焦平面陣列動態盲元處理方法,包括,(1)根據紅外儀器在其工作范圍內的兩點校正系數對紅外圖像進行兩點校正,獲得校正后的輸出圖像;(2)逐一判斷所述輸出圖像中每一像元的值與該像元相應周圍鄰域數據的均值的差值是否大于預設閾值,獲取包括所有盲元及其對應位置的閾值判斷結果,其中,差值大于預設閾值的為盲元;(3)根據所述閾值判斷結果生成盲元位置表;(4)紅外儀器每次輸出圖像時,根據所述盲元位置表通過自適應濾波的方式對輸出圖像中的盲元進行實時校正。
為實現上述目的,本發明還提供了一種紅外焦平面陣列動態盲元處理裝置,包括,兩點校正模塊、閾值判斷結果獲取模塊、盲元位置表生成模塊以及盲元校正模塊;所述兩點校正模塊,用于根據紅外儀器在其工作范圍內的兩點校正系數對紅外圖像進行兩點校正,獲得校正后的輸出圖像;所述閾值判斷結果獲取模塊與所述兩點校正模塊相連,用于逐一判斷所述輸出圖像中每一像元的值與該像元相應周圍鄰域數據的均值的差值是否大于預設閾值,獲取包括所有盲元及其對應位置的閾值判斷結果,其中,差值大于預設閾值的為盲元;所述盲元位置表生成模塊與所述閾值判斷結果獲取模塊相連,用于根據所述閾值判斷結果生成盲元位置表;所述盲元校正模塊與所述盲元位置表生成模塊相連,用于在紅外儀器每次輸出圖像時,根據所述盲元位置表通過自適應濾波的方式對輸出圖像中的盲元進行實時校正。
與現有技術相比,本發明的優點在于:通過本發明提供的紅外焦平面陣列動態盲元處理方法可以實現實時快速的盲元處理,并可以通過調節用于盲元判斷時的預設閾值將視覺可見的盲元都檢測出來。且根據所述盲元位置表通過自適應濾波的方式對輸出圖像中的盲元進行實時校正,提高了紅外圖像的成像質量。
附圖說明
圖1,本發明所述的紅外焦平面陣列動態盲元處理方法一實施方式的流程示意圖;
圖2,本發明所述閾值判斷過程一實施例的流程示意圖;
圖3,本發明所述的紅外焦平面陣列動態盲元處理裝置一實施方式的流程示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明提供的紅外焦平面陣列動態盲元處理方法及裝置做詳細說明。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江大立科技股份有限公司,未經浙江大立科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410681305.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





