[發明專利]蒸發源、成膜設備及其成膜方法

有效

• 申請號: 201410670844.7
• 申請日: 2014-11-20
• 公開（公告）號: CN104328377B
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 張金中;秦向東
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/12;C23C14/04
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司11243
• 代理人: 許靜,黃燦

技術領域

本發明涉及有機器件制備技術領域，特別是涉及一種制備有機薄膜的蒸發源、成膜設備及其成膜方法。

背景技術

平板顯示包括液晶顯示(Liquid Crystal Display，簡稱LCD)、OLED(Organic Light-Emitting Diode，簡稱OLED)顯示、等離子顯示(Plasma Display Panel，簡稱PDP)和電子墨水顯示等多種。其中，OLED顯示具有輕薄、低功耗、高對比度、高色域和可以實現柔性顯示等優點，是下一代平板顯示器的發展趨勢。

OLED顯示包括有源OLED和無源OLED顯示，其中，有源OLED顯示的制作工藝實現方式有LTPS(低溫多晶硅薄膜晶體管)背板+精細金屬掩膜(FMM Mask)形成OLED，和Oxide(氧化物薄膜晶體管)背板+白光OLED+彩膜。前者主要應用于小尺寸面板，對應手機和移動應用；后者主要應用于大尺寸面板，對應顯示器和電視等應用。現在LTPS背板+FMM Mask形成OLED的方式已經初步成熟，實現了量產。

精細金屬掩膜(FMM Mask)是通過蒸鍍方式將OLED材料按照預定程序蒸鍍到LTPS背板上，利用FMM Mask上的圖形，形成紅綠藍OLED發光器件。

目前蒸鍍工藝都利用線性蒸發源掃描的方式來完成，并且蒸發源是蒸氣產生部件和蒸發源部件合為一體的坩堝，坩堝的出氣面即為蒸鍍部件的蒸鍍面。線性蒸發源掃描方式就是在蒸鍍工藝中，坩堝從LTPS背板的一個側邊線性掃描至相對的另一側邊，完成在整個LTPS背板上蒸鍍OLED材料。

但是，由于坩堝的容量較小，隨著蒸發材料的持續消耗，同樣的溫度下，坩堝內的蒸氣壓不易控制，成膜均勻性受到飽和蒸氣壓不易控制、掃描速率均勻性等多個因素的影響，而且效率較低。同時，坩堝內的材料被持續蒸發，易造成材料的浪費。

發明內容

本發明提供一種蒸發源、成膜設備及其成膜方法，用以解決現有技術中隨著膜材的損耗，蒸發源的內部達不到飽和蒸氣壓，導致在基板上蒸鍍的膜層厚度不均勻的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供一種蒸發源，用于在待蒸鍍基板上蒸鍍膜層，其中，所述蒸發源包括蒸氣產生部件和蒸鍍部件，所述蒸鍍部件具有與所述基板的尺寸配合的蒸鍍面，所述蒸氣產生部件產生的蒸氣通過所述蒸鍍面蒸鍍到所述基板上，形成膜層。

本發明還提供一種成膜設備，采用權利要求如上所述的蒸發源。

本發明還提供一種采用如上所述的成膜設備進行成膜的方法，包括：

在蒸發源的蒸氣產生部件內裝載蒸發材料；

將蒸發源放入成膜設備的蒸鍍腔體內，對蒸鍍腔體進行抽真空；

對蒸發材料進行加熱；

將待蒸鍍基板和掩膜板通過預裝載腔體傳送至蒸鍍腔體內；

蒸氣產生部件產生的材料蒸氣通過蒸鍍面，在掩膜板的阻擋下進行蒸鍍，在待蒸鍍基板上形成所需的膜層圖形。

本發明的上述技術方案的有益效果如下：

上述技術方案中，蒸發源產生的蒸氣通過蒸鍍面蒸鍍到基板上，用以在所述基板上形成膜層，通過設置所述蒸鍍面與所述基板的尺寸配合，從而在蒸鍍過程中可以不用移動蒸鍍面，一次完成整個基板上的膜層蒸鍍，保證了在蒸鍍過程中，蒸鍍到整個基板上的蒸氣處于同一蒸氣壓下，成膜均勻。同時，本發明的技術方案還具有蒸鍍工藝時間短，生產效率高的優點。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1表示本發明實施例中蒸發源的結構示意圖；

圖2表示本發明實施例中蒸發源的剖視圖；

圖3表示本發明實施例中蒸發源在基板上蒸鍍膜層的過程示意圖。

具體實施方式

對于蒸鍍成膜工藝，現有技術中使用的蒸發源為坩堝，坩堝的出氣口即為蒸鍍面。在蒸鍍過程中，坩堝從待蒸鍍基板的一個側邊線性移動至相對的另一側邊，完成整個基板上的膜層蒸鍍。但是，由于坩堝的容量較小，隨著蒸發材料的持續消耗，同樣的溫度下，坩堝內的蒸氣壓不易控制，成膜均勻性受到飽和蒸氣壓不易控制、掃描速率均勻性等多個因素的影響，而且效率較低。