[發(fā)明專利]微弧氧化處理的鎂合金上的表面處理方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201410666132.8
• 申請日: 2014-11-19
• 公開（公告）號: CN104862699A
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發(fā)明（設計）人: 陶宏;蘇敬豪;李思越;張雪竹;黎國鏘
• 申請（專利權）人: 納米及先進材料研發(fā)院有限公司
• 主分類號: C23C28/00
• 分類號: C23C28/00;C23C18/32;C23C22/02
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權代理有限公司 11002
• 代理人: 謝順星;張晶

1.一種微弧氧化處理的鎂合金表面的處理方法，其包括：

a)提供微弧氧化處理的鎂合金樣品；

b)將所述樣品浸入到溶液中；以及

c)干燥所述步驟(b)的所述樣品；

其中，從所述步驟(c)獲得所述已處理樣品的表面是超疏水的。

2.如權利要求1所述的方法，其中，在所述步驟(c)之后，所述已處理樣品的所述表面的水接觸角是至少140.4°。

3.如權利要求1所述的方法，其中，在所述步驟(b)之前所述步驟(a)的所述樣品通過NaOH溶液蝕刻。

4.如權利要求3所述的方法，其中所述溶液選自于由全氟癸基三甲氧基硅烷,正辛基三乙氧基硅烷和全氟癸基三乙氧基硅烷組成的組。

5.如權利要求1所述的方法，其中所述溶液是與硅烷相混合的四乙基原硅酸酯，并且所述步驟(b)和步驟(c)被重復兩次。

6.一種鎂合金，其包括：

5-40μm厚度的鎂基陶瓷層；和所述鎂基陶瓷層上的超疏水涂層，其中所述涂層包括硅烷層，從而所述合金具有至少140.4°的水接觸角。

7.如權利要求6所述的鎂合金，其中所述合金的表面包括鱗片狀結構；所述鱗片狀結構的薄片具有100-200nm的長度。

8.如權利要求7所述的鎂合金，其通過如權利要求3或者4所述的方法制造。

9.如權利要求6所述的鎂合金，其中所述表面包括具有200nm尺寸的納米顆粒。

10.如權利要求9所述的鎂合金，其通過如權利要求5所述的方法制造。

11.一種微弧氧化處理的鎂合金表面的處理方法，其包括：

a)提供微弧氧化處理的鎂合金樣品；

b)在乙醇溶液中通過醋酸鎳溶液預處理所述樣品；

c)通過還原劑溶液活化所述預處理的樣品；以及

d)利用沉積溶液，在所述已活化的樣品的表面上形成化學鍍鎳，

其中，從所述步驟(d)所獲得的所述已處理的樣品是導電的。

12.如權利要求11所述的方法，其中所述還原劑溶液是NaBH₄的乙醇溶液。

13.如權利要求11所述的方法，其中所述沉淀溶液包括NiSO₄·6H₂O、NaH₂PO₂·H₂O、檸檬酸鈉、H₃BO₃、C₃H₆O₃以及硫脲。

14.如權利要求11所述的方法，其中從所述步驟(d)獲得的所述已處理的鎂合金樣片的表面電阻為小于0.05Ω/sq。

15.一種鎂合金，其包括所述合金上的10-30μm厚度的鎳層，其之間的微弧氧化處理的層具有5-40μm厚度；所述鎳層形成了所述微弧氧化處理層上的均勻表面，以提供改善的導電性，從而所述合金具有小于0.05Ω/sq的表面電阻。

16.如權利要求15所述的鎂合金，其中所述微弧氧化處理層具有孔，該孔具有由鎳填充的1-3μm的平均孔徑。

17.如權利要求15所述的鎂合金，其通過如權利要求11的方法制造。

18.一種微弧氧化處理的鎂合金表面的處理方法，其包括：

a)提供微弧氧化處理的鎂合金樣品；

b)將所述樣品浸入到硅烷溶液中；

c)干燥所述步驟(b)的所述樣品；以及

d)將所述步驟(c)的所述樣品進行退火；

其中，所述溶液是與硅烷相混合的四乙基原硅酸酯，并且所述步驟(b)和步驟(c)重復三次以上；

其中，所述表面的顏色與標準顏色代碼PANTONE?19-0303相匹配。

19.一種鎂合金，其包括5-40μm厚度的鎂基陶瓷層，和所述鎂基陶瓷層上的硅烷涂層，其中，所述合金的表面顏色與標準顏色代碼PANTONE?19-0303相匹配。

20.如權利要求19的鎂合金，其通過如權利要求18的方法制造。