[發(fā)明專利]一種離子注入調(diào)控氮化鉭薄膜電阻阻值的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410662340.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-11-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104361967B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-11-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莊彤;丁明建;李杰成;李錦添;楊俊峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣州天極電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01C17/075 | 分類號(hào): | H01C17/075 |
| 代理公司: | 廣州圣理華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司44302 | 代理人: | 李唐明 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市海珠區(qū)大干*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 離子 注入 調(diào)控 氮化 薄膜 電阻 阻值 方法 | ||
1.一種離子注入調(diào)控氮化鉭薄膜電阻阻值的方法,其特征在于:包括以下步驟:
第一步:將需要注入氮離子的氮化鉭薄膜電阻放置于離子注入設(shè)備的工件放置區(qū);
第二步:離子注入設(shè)備抽真空達(dá)到1.0×10-4-1.0×10-5Pa之間;
第三步:向離子注入設(shè)備中充入純度大于等于99.99%的高純氮?dú)猓闺x子注入腔體的真空度維持在0.1-10Pa之間;
第四步:?jiǎn)?dòng)注入電源,氮?dú)怆婋x,氮離子進(jìn)入氮化鉭薄膜,即完成注入;
第五步:關(guān)閉離子注入電源,腔體繼續(xù)充入氮?dú)庵钡?.01×105Pa;
第六步:打開(kāi)腔體,取出薄膜電阻器,
其中,在第四步中,注入時(shí)的電壓為300-5000V、注入時(shí)間為1min以上。
2.如權(quán)利要求1所述的離子注入調(diào)控氮化鉭薄膜電阻阻值的方法,其特征在于:在第六步完成后,通過(guò)EDS對(duì)薄膜電阻氮原子含量進(jìn)行測(cè)試。
3.如權(quán)利要求1所述的離子注入調(diào)控氮化鉭薄膜電阻阻值的方法,其特征在于:在第六步完成后,對(duì)薄膜電阻的阻值進(jìn)行測(cè)量。
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