[發(fā)明專(zhuān)利]一種用透光鏡檢測(cè)8英寸拋光片缺陷的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410660053.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-11-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104316542A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-01-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 武衛(wèi);羅翀;王國(guó)瑞;劉琦;閆繼增 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/95 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/95 |
| 代理公司: | 天津?yàn)I海科緯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12211 | 代理人: | 楊慧玲 |
| 地址: | 300384 天津市濱海新區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 透光 檢測(cè) 英寸 拋光 缺陷 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種拋光片的檢測(cè)方法,具體涉及一種用透光鏡檢測(cè)8英寸拋光片缺陷的方法。
背景技術(shù)
隨著超大規(guī)模集成電路技術(shù)(VLSI)和各種光電子技術(shù)的迅速發(fā)展,尤其在大尺寸單晶硅晶圓片生產(chǎn)制造中,對(duì)材料和器件的質(zhì)量控制更為嚴(yán)格,將面對(duì)一系列的問(wèn)題,例如,如何無(wú)損傷地和實(shí)時(shí)地檢測(cè)大面積硅片的表面結(jié)構(gòu)性質(zhì),如何有效地在線(xiàn)控制單晶硅晶圓片的制備質(zhì)量等等,僅依靠以往的常規(guī)檢測(cè)手段,往往顯示出極大的局限性,難以滿(mǎn)足現(xiàn)代檢測(cè)技術(shù)的要求。因此,人們?nèi)灾铝τ诟鞣N先進(jìn)檢測(cè)手段的研究和開(kāi)發(fā)。
光學(xué)檢測(cè)技術(shù)具有非破壞性,高靈敏度、對(duì)缺陷的高識(shí)別性、可直觀圖示等特點(diǎn),而且其設(shè)備簡(jiǎn)單、使用方便。近年來(lái),一種新型的光學(xué)檢測(cè)技術(shù)—“魔鏡”檢測(cè)方法已引起人們的普遍關(guān)注,“魔鏡”是中國(guó)西漢時(shí)期(公元前206年至公元25年)發(fā)明的一種特殊青銅鏡。這種青銅鏡外形和普通銅鏡沒(méi)有什么不同,但在陽(yáng)光下,鏡面反射光照在墻上,從反射圖象中可以看到被鑄在鏡背面的花紋圖案,就好象陽(yáng)光透過(guò)鏡面從背后反射回來(lái)一樣,故古人又稱(chēng)之為“透光鏡”,透光鏡的原理如圖1所示,
D=I1I2l/(l+L),
R=2Lll1I2/[(I1’I2’-I1I2)(l+L)],
h=-ll1I2(I1’I2’-I1I2)/[16(l+L)L],
其中D,R,h分別為表面起伏的曲率半徑,起伏跨度和起伏深度(或高度),由l、L、l1I2、I1’I2’可估測(cè)表面起伏的跨度和深度,這種鑄鏡工藝自宋代以后失傳,直到19世紀(jì)末,日本人首次仿制出這種青銅鏡,當(dāng)時(shí)引起了世界范圍的眼目。遺憾的是,至今國(guó)內(nèi)拋光片產(chǎn)業(yè)界仍未能將這一技術(shù)應(yīng)用于半導(dǎo)體尤其是單晶硅晶圓片的生產(chǎn)制造。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明利用透光鏡實(shí)現(xiàn)了無(wú)損傷地和實(shí)時(shí)地檢測(cè)大面積硅片的表面結(jié)構(gòu)性質(zhì),并總結(jié)歸納了各種硅片缺陷的不良圖譜,實(shí)現(xiàn)了對(duì)單晶硅晶圓片的質(zhì)量的在線(xiàn)監(jiān)控。
本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是:一種用透光鏡檢測(cè)8英寸拋光片缺陷的方法,該方法使用透光鏡檢測(cè)8英寸拋光片的缺陷。
優(yōu)選的,所述方法包括如下步驟:
(1)開(kāi)啟測(cè)試系統(tǒng)總電源輸入;
(2)開(kāi)啟電腦;
(3)開(kāi)啟控制盒,按下照明電源上的光源供電開(kāi)關(guān),此時(shí)觀察輸出電流表,電流值為5.4-5.6A,如果顯示數(shù)值超過(guò)此范圍,調(diào)節(jié)輸出電流調(diào)節(jié)旋鈕,將電流值調(diào)整到規(guī)定范圍;
(4)開(kāi)啟成像顯示系統(tǒng);
(5)開(kāi)啟硅片傳送系統(tǒng)控制器,將待測(cè)拋光片放置在硅片承載臺(tái)上;
(6)選擇測(cè)試參數(shù);
(7)根據(jù)界面提示在各個(gè)片籃臺(tái)上放置相應(yīng)的片籃,并點(diǎn)擊ENTER鍵確認(rèn),所有片籃確認(rèn)結(jié)束后,系統(tǒng)將進(jìn)入測(cè)試界面;
(8)觀察顯示器中的圖形,如果不能完全顯示,則調(diào)節(jié)硅片承載臺(tái)傾斜調(diào)節(jié)旋鈕使其完全顯示;
(9)測(cè)試完畢后,取出所有片籃臺(tái)上的片籃;
(10)關(guān)機(jī):關(guān)閉硅片傳送系統(tǒng)控制器,關(guān)閉成像顯示系統(tǒng),關(guān)閉電腦,關(guān)閉設(shè)備總電源輸入。
優(yōu)選的,所述8英寸拋光片厚度為200μm-1500μm。
優(yōu)選的,所述8英寸拋光片的摻雜劑為As,P,Sb或B。
整套透光鏡設(shè)備由光學(xué)系統(tǒng)、硅片傳送系統(tǒng)及其控制器、成像顯示系統(tǒng)、軟件控制系統(tǒng)組成。其中硅片傳送系統(tǒng)含有5個(gè)片籃放置臺(tái),能夠承載4-8英寸片籃;光學(xué)系統(tǒng)包含透鏡組、光源及影像輸出系統(tǒng),該系統(tǒng)是透光鏡設(shè)備的核心;成像顯示系統(tǒng)能夠顯示通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)所生成的像,并通過(guò)軟件進(jìn)行圖像對(duì)比度的調(diào)節(jié),從而生成理想的圖形,同時(shí),該系統(tǒng)也可以設(shè)置Dimple和Flaw的相關(guān)參數(shù),進(jìn)而對(duì)不同缺陷硅片進(jìn)行分選;軟件控制系統(tǒng)通過(guò)電腦對(duì)整個(gè)系統(tǒng)進(jìn)行控制,并保存參數(shù)設(shè)置和測(cè)試數(shù)據(jù)。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法以及記錄介質(zhì)
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- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法及檢測(cè)程序
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