[發明專利]一種液晶顯示器、平面轉換模式的陣列基板及其制造方法

有效

• 申請號: 201310326466.6
• 申請日: 2013-07-30
• 公開（公告）號: CN103926752B
• 公開（公告）日: 2017-04-19
• 發明（設計）人: 梁艷峰
• 申請（專利權）人: 上海中航光電子有限公司;天馬微電子股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1343
• 分類號: G02F1/1343;G02F1/1333
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291
• 代理人: 劉松

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種液晶顯示器、平面轉換模式的陣列基板及其制造方法。

背景技術

薄膜晶體管液晶顯示器發展越來越迅速，已經成為主流的平板顯示器。從出現至今，薄膜晶體管液晶顯示器已經發展出多個種類，其驅動模式和顯示效果不盡相同，各有所長。其中，平面轉換（In-Plane Switching，IPS）模式的薄膜晶體管液晶顯示器（包含IPS模式的陣列基板）以其特有的結構特點和驅動原理，表現出了優良的顯示能力和效果。

如圖1所示，為IPS模式的陣列基板的平面圖。其中，當從陣列基板表面的法向觀察時，像素電極1和公共電極2之間具有用于避免短路故障的特定間隙7。

如圖2a至圖2c所示，為現有技術中的陣列基板在其連續制作步驟中沿圖1中線I—I'截取的截面圖。如圖2a至圖2c所示，首先在如圖2a所示的鈍化層3的表面形成如圖2b所示的第一有機膜4，然后在第一有機膜4的表面形成如圖2c所示的間隔排列的條狀像素電極1和條狀公共電極2。由于像素電極1和公共電極2被設置在陣列基板的同一平面上，進行顯示的時候，該陣列基板的開口率較小，因此光線透過率較低。

如圖3a至圖3d所示，為現有技術中的陣列基板在其另一種連續制作步驟中沿圖1中線I—I'截取的截面圖。如圖3a至圖3d所示，首先在如圖3a所示的鈍化層3的表面形成如圖3b所示的條狀像素電極1，然后形成覆蓋像素電極1的如圖3c所示的第一有機膜4，并在第一有機膜4的表面形成如圖3d所示的條狀公共電極2。這種制作方法中，像素電極1和公共電極2被設置在同一陣列基板的不同平面上，因此能夠提高透過率，但是像素電極1和公共電極2卻是分兩次完成的。按照上述制造步驟，在形成公共電極2的時候，像素電極1已被第一層有機膜4覆蓋，無法以像素電極1的位置為參照基準來形成公共電極2，因此像素電極1和公共電極2之間的特定間隙就很容易出現偏差，從而導致像素電極1和公共電極2與各自的預定位置之間的重合精度比較差。

綜上所述，目前還沒有一種陣列基板可以同時實現既有較高的透過率，又可以克服像素電極和公共電極與各自的預定位置之間的重合精度比較差的缺陷。

發明內容

本發明實施例提供一種液晶顯示器、平面轉換模式的陣列基板及其制造方法，用以解決現有技術中的IPS模式的陣列基板不能同時實現既有較高的透過率，又能提高像素電極和公共電極與各自的預定位置之間的重合精度的問題。

本發明實施例采用以下技術方案：

一種平面轉換模式的陣列基板，包括：基板和位于所述基板表面的鈍化層，還包括：位于所述鈍化層表面、且存在凹槽的第一有機膜；以及位于所述凹槽外的所述第一有機膜表面的公共電極和位于所述凹槽內的像素電極；其中，所述公共電極在所述鈍化層表面的垂直投影區域和所述像素電極在所述鈍化層表面的垂直投影區域不重合。

一種液晶顯示器，包括上述陣列基板，與所述陣列基板相對設置的彩膜基板，液晶層形成在所述陣列基板和所述彩膜基板之間。

一種平面轉換模式的陣列基板的制造方法，包括：在所述陣列基板的鈍化層表面形成第一有機膜；并通過對預定位置垂直投影在第一有機膜的區域進行蝕刻，去除部分第一有機膜；其中，所述預定位置滿足：包含像素電極位置、且至少不包含第一有機膜表面的公共電極位置垂直投影在像素電極位置所在表面的區域；在所述像素電極位置形成像素電極，同時在第一有機膜表面的公共電極位置形成公共電極。

與現有技術相比，本發明技術方案具有以下有益效果：

由于像素電極位于第一有機膜的凹槽內，公共電極位于凹槽外的第一有機膜表面，使得像素電極和公共電極既可以被設置在同一陣列基板的不同平面上，還可以一次完成，因此既能保證該陣列基板的透光率，又能精確的控制像素電極和公共電極之間的特定間隙，提高像素電極和公共電極與各自的預定位置之間的重合精度。

附圖說明

圖1為IPS模式的陣列基板的平面圖；

圖2a至圖2c為現有技術中的陣列基板在其連續制作步驟中沿圖1中線I—I'截取的截面圖；

圖3a至圖3d為現有技術中的陣列基板在其另一種連續制作步驟中沿圖1中線I—I'截取的截面圖；

圖4為本發明實施例提供的一種沿圖1中陣列基板的剖面結構示意圖；

圖5為本發明實施例提供的一種陣列基板的制造方法的流程示意圖；

圖6a至圖6e為本發明實施例提供的一種陣列基板在其連續制作步驟中的截面圖；

圖7為本發明實施例提供的另一種沿圖1中陣列基板的剖面結構示意圖；