[發(fā)明專利]灌注控制方法及灌注控制裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410623908.8 | 申請日: | 2014-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN104460370B | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 程永亮;秦念穩(wěn);陳文俊;周晶晶 | 申請(專利權(quán))人: | 中國鐵建重工集團有限公司 |
| 主分類號: | G05B19/04 | 分類號: | G05B19/04 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11372 | 代理人: | 吳大建,劉華聯(lián) |
| 地址: | 410100 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 灌注 控制 方法 裝置 | ||
1.一種灌注控制方法,包括:
信號采集步驟,采集環(huán)境壓力,以得到壓力測量值;
信號處理步驟,接收所述壓力測量值,并根據(jù)所述壓力測量值得到灌注參數(shù);以及
信號輸出步驟,接收并輸出所述灌注參數(shù);
其中,在所述信號處理步驟中,基于控制規(guī)則表根據(jù)壓力測量值與壓力理想值之間的關(guān)系來調(diào)取所需的控制參數(shù),通過調(diào)取一個或多個控制參數(shù)以實現(xiàn)PID控制的各種控制策略,并根據(jù)所述壓力測量值和所述控制參數(shù)得到所述灌注參數(shù);
所述灌注參數(shù)為灌注速度;
在所述信號處理步驟中,對所述壓力測量值與壓力理想值進行比較,根據(jù)壓力測量值與壓力理想值的差異來動態(tài)調(diào)整所述控制參數(shù);
在所述信號處理步驟中,當所述差異大于第一范圍值時,采用比例控制策略以得到灌注參數(shù);
在所述信號處理步驟中,當所述差異小于第一范圍值且大于第二范圍時,采用比例微分控制策略以得到灌注參數(shù);
所述信號處理步驟中,當所述差異小于第二范圍值時,采用比例積分控制策略或比例積分微分控制策略以得到灌注參數(shù),所述第二范圍值小于所述第一范圍值;
所述控制規(guī)則表中的控制參數(shù)是可變的;
依據(jù)控制系統(tǒng)的實際運行狀態(tài)或者動態(tài)特性來動態(tài)調(diào)整所述控制規(guī)則表中的控制參數(shù)。
2.一種采用權(quán)利要求1所述的灌注控制方法的灌注控制裝置,包括:
采集單元,所述采集單元用于采集環(huán)境壓力,以得到壓力測量值;
處理單元,所述處理單元接收來自所述采集單元的壓力測量值,并根據(jù)所述壓力測量值得到灌注參數(shù);
控制規(guī)則表,在所述控制規(guī)則表中存儲有多個控制參數(shù);以及
輸出單元,所述輸出單元接收并輸出來自所述處理單元的灌注參數(shù);
其中,所述處理單元基于控制規(guī)則表根據(jù)壓力測量值與壓力理想值之間的關(guān)系來調(diào)取所需的控制參數(shù),通過調(diào)取一個或多個控制參數(shù)以實現(xiàn)PID控制的各種控制策略,并根據(jù)所述壓力測量值和所述控制參數(shù)得到所述灌注參數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的灌注控制裝置,其特征在于,所述處理單元包括:
比較器,所述比較器接收來自所述采集單元的壓力測量值,并比較壓力測量值與壓力理想值的差異;
運算器,所述運算器根據(jù)所述差異從控制規(guī)則表中調(diào)取控制參數(shù),并根據(jù)所述差異和所述控制參數(shù)得到所述灌注參數(shù)。
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