[發明專利]一種測定銻的共振瑞利散射光譜方法有效
| 申請號: | 201410613291.1 | 申請日: | 2014-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN104359878A | 公開(公告)日: | 2015-02-18 |
| 發明(設計)人: | 梁愛惠;李院;蔣治良;張杏輝 | 申請(專利權)人: | 廣西師范大學 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 桂林市華杰專利商標事務所有限責任公司 45112 | 代理人: | 羅玉榮 |
| 地址: | 541004 廣西壯*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 測定 共振 瑞利散射 光譜 方法 | ||
1.一種測定Sb(III)的共振瑞利散射光譜法,包括如下步驟:
(1)制備Sb(III)標準溶液體系:依次移取10~900μL?8.37?mg/L?Sb(III)標準溶液加入反應瓶中,再加入150~250?μL?9.0?mol/L?H2SO4,用二次蒸餾水定容至10?mL,混勻;將具塞分液漏斗裝在反應瓶上,在吸收瓶中加入250~350?μL?0.4?mmol/L的I3-和550~650?μL?1?g/L的氧化石墨烯作為吸收液,用二次蒸餾水定容至5.0?mL,搖勻;將反應瓶和吸收瓶連接,往分液漏斗中加入10?mL?14.4?g/L的NaBH4溶液,在5?min內將NaBH4溶液加入反應瓶,反應結束后,靜置15?min;
(2)制備空白對照溶液體系:用步驟(1)的方法不加Sb(III)標準液制備空白對照溶液體系;
(3)分別取按步驟(1)、(2)制備的Sb(III)標準溶液體系及空白對照溶液體系適量,置于比色皿中,在熒光分光光度計上,同步掃描激發波長和發射波長,獲得體系的共振瑞利散射光譜,測定體系在322?nm?Sb(III)標準溶液體系的共振瑞利散射峰強度值I,以及測定空白對照溶液體系的共振瑞利散射峰強度值I0,計算ΔI=?I–I0;
(4)以ΔI對Sb(III)的濃度關系做工作曲線;
(5)被測物樣品測定:取含有Sb(III)的待測樣品,按步驟(1)~(3)操作,算出被測物的ΔI樣=I樣-?I0;
(6)根據樣品測得的ΔI樣,查步驟(4)的工作曲線,計算出被測物中Sb(III)的含量。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征是:所述的0.4?mmol/L?I3-溶液配制方法是:準確稱取3.32?g?KI溶于水中,再準確稱取0.026?g?I2加入KI溶液中,攪拌使其溶解,然后移入250?ml?容量瓶中,定容至刻度。
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