[發明專利]煎烤裝置

有效

• 申請號: 201410609809.4
• 申請日: 2014-10-31
• 公開（公告）號: CN105534332B
• 公開（公告）日: 2019-02-15
• 發明（設計）人: 邢鳳雷;王志剛;杜明輝;尹志楠;萬程
• 申請（專利權）人: 佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司;美的集團股份有限公司
• 主分類號: A47J37/10
• 分類號: A47J37/10;A21B5/03
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 賈玉姣

1.一種煎烤裝置，其特征在于，包括：

下烤盤；

上烤盤，所述上烤盤可轉動地連接至所述下烤盤，且所述上烤盤與所述下烤盤之間限定出煎烤腔室，所述上烤盤和所述下烤盤在閉合狀態時所述煎烤腔室的高度為10-15mm，所述上烤盤和所述下烤盤均為方形烤盤，所述上烤盤和所述下烤盤的內表面上形成有彎曲的蒸汽通道，所述蒸汽通道形成為螺旋形狀，所述下烤盤上的所述蒸汽通道的起始端位于所述下烤盤的中心處，且沿著逆時針的方向向所述下烤盤的邊緣一圈圈的螺旋向外延伸，所述上烤盤內的蒸汽通道的形狀與所述下烤盤內的所述蒸汽通道的形狀相同；

發熱管，所述發熱管設在所述上烤盤和所述下烤盤的至少一個內且盤繞設置，所述發熱管的中心線與其所在的所述上烤盤和/或下烤盤的內側壁之間的最近距離不大于50mm，在所述上烤盤和所述下烤盤內均設置所述發熱管且位置對應，當所述上烤盤位于關閉位置時，所述上烤盤內的所述發熱管和所述下烤盤內的所述發熱管在所述下烤盤內的投影完全重合。

2.根據權利要求1所述的煎烤裝置，其特征在于，所述上烤盤和所述下烤盤均為大體矩形烤盤。

3.根據權利要求2所述的煎烤裝置，其特征在于，所述發熱管在其所在的所述上烤盤和/或下烤盤內盤繞成外輪廓為大體矩形的形狀。

4.根據權利要求3所述的煎烤裝置，其特征在于，所述發熱管的中心線與其所在的所述上烤盤和/或下烤盤的相對兩個內側壁之間的距離相等。

5.根據權利要求4所述的煎烤裝置，其特征在于，所述發熱管的中心線與其所在的所述上烤盤和/或下烤盤的四個內側壁之間的距離均相等。

6.根據權利要求1所述的煎烤裝置，其特征在于，所述上烤盤的內表面垂直地延伸出環形的鎖水圈，所述上烤盤和所述下烤盤在閉合狀態時所述鎖水圈的下端與所述下烤盤的內表面之間的距離小于等于7mm。

7.根據權利要求1所述的煎烤裝置，其特征在于，所述上烤盤和/或下烤盤的內表面上設有垂直延伸出的螺旋延伸的凸筋，所述蒸汽通道由所述凸筋之間限定出。

8.根據權利要求7所述的煎烤裝置，其特征在于，所述凸筋包括依次連接的且徑向間隔開的多條回形凸筋，且所述蒸汽通道形成為方螺旋形狀。

9.根據權利要求1所述的煎烤裝置，其特征在于，所述上烤盤和/或下烤盤的內表面上具有多個凸出部，所述多個凸出部之間限定出所述蒸汽通道。

10.根據權利要求9所述的煎烤裝置，其特征在于，所述多個凸出部呈多排多列排列、或呈環形陣列排列。

11.根據權利要求9所述的煎烤裝置，其特征在于，所述凸出部之間的距離D1滿足：2mm≤D1≤5mm。

12.根據權利要求9所述的煎烤裝置，其特征在于，所述凸出部的高度H1滿足：0.5mm≤H1≤1.5mm。