[發明專利]光學指紋傳感器芯片光柵及其制作方法有效
| 申請號： | 201410589027.9 | 申請日： | 2014-10-28 |
| 公開（公告）號： | CN104297830A | 公開（公告）日： | 2015-01-21 |
| 發明（設計）人： | 馮建中 | 申請（專利權）人： | 北京思比科微電子技術股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18;G06K9/20 |
| 代理公司： | 北京凱特來知識產權代理有限公司 11260 | 代理人： | 鄭立明;趙鎮勇 |
| 地址： | 100085 北京市海*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 指紋 傳感器 芯片 光柵 及其 制作方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光學指紋傳感器芯片光柵，其特征在于，在光學指紋傳感器芯片感光單元的晶圓上直接生成光柵，感光單元對應開孔，電路部分被覆蓋。
2.根據權利要求1所述的光學指紋傳感器芯片光柵，其特征在于，所述光柵的不透光的成分為金屬，所述電路部分全部用金屬覆蓋。
3.一種權利要求1或2所述的光學指紋傳感器芯片光柵的制作方法，其特征在于，包括步驟：
A、在光學指紋傳感器芯片感光單元加工完的晶圓上用CVD方法生成透明的二氧化硅膜；
B、用濺射方法生成不透明的金屬膜；
C、用光刻方法露出需要透光的區域；
D、經過干法刻蝕后將需要透光區域的金屬刻蝕掉，在芯片上做出光柵；
E、用CVD的方法在芯片的表面生成透明的保護膜。
4.根據權利要求3所述的光學指紋傳感器芯片光柵的制作方法，其特征在于，所述步驟E包括：
首先，用SPIN?ON?GLASS方法制作透明的二氧化硅；
然后，用PECVD方法生成透明的氮氧化硅保護膜。
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