[發明專利]不粘鍋及其制造方法

有效

• 申請號: 201410557941.5
• 申請日: 2014-10-20
• 公開（公告）號: CN104257256B
• 公開（公告）日: 2017-11-14
• 發明（設計）人: 瞿義生;方承勇;陳軍
• 申請（專利權）人: 武漢蘇泊爾炊具有限公司;浙江蘇泊爾股份有限公司
• 主分類號: A47J27/00
• 分類號: A47J27/00;A47J36/04
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司11240
• 代理人: 唐軼,吳貴明

技術領域

本發明涉及炊具產品領域，尤其涉及一種不粘鍋及其制造方法。

背景技術

目前，市面上銷售的不粘鍋主要有兩類，一類是噴涂聚四氟乙烯(PTFE)涂料的不粘鍋，另一類是噴涂溶膠凝膠(SOL-GEL)陶瓷涂料的不粘鍋。對于這兩種不粘鍋，由于涂料形成的表面不粘涂層的強度不高，不能使用鐵鏟烹飪，即使使用硅膠鏟和木鏟等護鍋鏟進行烹飪，使用一段時間后，涂層也容易出現劃傷和脫落，影響產品結構和性能；同時，這兩種不粘鍋的不粘涂層不能耐高溫，干燒會導致涂層的不粘性急劇下降。也有現有技術指出，可以在鍋內表面鍍覆一層非晶態鎳磷合金層以提高不粘性。但鎳本身為重金屬，對人體有害，不符合炊具衛生標準的要求，實際也未見該類產品的生產和銷售。因此，有必要針對現有技術中存在的上述缺陷進行改進。

發明內容

本發明的主要目的是提供一種不粘鍋及其制造方法，通過對不粘鍋的結構進行改進，能夠有效地改善不粘性和耐熱性，從而有利于提高產品性能。

為了實現上述目的，根據本發明的第一個方面，提供了一種不粘鍋，包括鍋身，所述鍋身的表面上具有薄膜層，所述薄膜層由包含Cr、Zr、N三元氮化物的薄膜所形成。

進一步地，所述三元氮化物的薄膜中，Cr、Zr、N三種元素的原子個數百分比分別為10～40％、15～45％、28～58％。

進一步地，所述薄膜層的厚度為0.1～25μm。

進一步地，所述薄膜層通過磁控濺射法、多弧離子鍍法、化學氣相沉積法、離子束沉積法或脈沖激光沉積法形成。

進一步地，在所述鍋身的表面和所述薄膜層之間還設有過渡層。

進一步地，所述過渡層包括Cr和/或Ti，且厚度為0.01～0.5μm。

進一步地，所述薄膜層經過砂光處理，以便在所述薄膜層的表面上形成微觀紋理。

根據本發明的第二個方面，提供了一種不粘鍋的制造方法，所述制造方法包括：

(1)成型步驟：形成弧形底或平底的鍋身；

(2)表面處理步驟：對烘干后的鍋身表面進行噴砂或者砂光處理，形成預定范圍的表面粗糙度；

(3)薄膜層形成步驟：在所述鍋身的表面上形成薄膜層，所述薄膜層由包含Cr、Zr、N三元氮化物的薄膜所形成；

(4)砂光步驟：所述薄膜層形成之后，對所述薄膜層進行砂光處理，增加表面光潔度的同時，在所述薄膜層的表面形成微觀紋理。

進一步地，在所述薄膜層形成步驟中，采用磁控濺射法或多弧離子鍍法在所述鍋身的表面上沉積所述三元氮化物的薄膜，工藝參數如下：負偏壓0～250V；N₂流量為0.1～0.3L/min；Ar流量為0.02～0.05L/min；靶電流為30～100A；沉積溫度為250～450℃；沉積時間為30～120min。

進一步地，在所述表面處理步驟之后和所述薄膜層形成步驟之前，在所述鍋身的表面上沉積過渡層。

根據本發明的技術方案，由于利用了Cr、Zr、N三元氮化物的薄膜的較低表面能和自清潔特性，從而實現不粘效果，并且薄膜層的表面硬度高、耐磨性好，可以使用鐵鏟烹飪；薄膜層的耐熱性也更好，可以使用大火烹飪。

附圖說明

說明書附圖用來提供對本發明的進一步理解，構成本發明的一部分，本發明的示意性實施例及其說明用于解釋本發明，并不構成對本發明的不當限定。在附圖中：

圖1是根據本發明實施例的不粘鍋的結構示意圖。

具體實施方式

需要說明的是，在沒有明確限定或不沖突的情況下，本發明的各個實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結合實施例來詳細說明本發明。

為了克服現有技術中存在的缺陷，本發明提供了一種不粘鍋，包括鍋身，所述鍋身的表面上具有薄膜層，所述薄膜層由包含Cr、Zr、N三元氮化物的薄膜所形成。

根據前述實施例的結構，利用了Cr、Zr、N三元氮化物的薄膜的較低表面能和自清潔特性，從而實現不粘效果，并且薄膜層的表面硬度高、耐磨性好，可以使用鐵鏟烹飪；薄膜層的耐熱性也更好，可以使用大火烹飪。

圖1是根據本發明實施例的不粘鍋的結構示意圖。在如圖1所示的實施例中，提供了一種不粘鍋，其包括鍋身10，在該鍋身10的內表面上具有薄膜層20，在鍋身10和薄膜層20之間還可以具有過渡層30。

其中，鍋身10可以采用不銹鋼、鋁合金、鋁不銹鋼復合片或者碳鋼等材料，并經過沖壓成型而成，鍋身10還可以具有弧形底或平底。