[發(fā)明專利]基板處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410557940.0 | 申請日： | 2014-10-20 |
| 公開（公告）號： | CN105589608A | 公開（公告）日： | 2016-05-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 閔祥偉;劉偉;樂衛(wèi)文;張平;王珂;郭威 | 申請（專利權）人： | 浙江金徠鍍膜有限公司 |
| 主分類號： | G06F3/044 | 分類號： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 321016 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 處理 裝置 | ||
1.一種基板處理裝置，其特征在于：其包括一承載臺板和以及設置在所 述承載臺板附近的發(fā)光元件，所述承載臺板至少具有一第一表面，所述第一表 面上至少具有一第一承載區(qū)域，所述第一承載區(qū)域用于承載通過一結合層結合 的一第一基板和一第二基板，所述第一基板位于所述第一表面和第二基板之 間，所述第一基板至少具有一第一邊緣，所述第一承載區(qū)域位于所述第一邊緣 的附近至少具有一開口，所述發(fā)光元件用于發(fā)出光束，所述光束用于通過所述 開口照射到所述第一邊緣。
2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：所述發(fā)光元件設置 于所述承載臺板的下方，所述光束由所述發(fā)光元件指向所述開口。
3.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：至少部分所述第一 邊緣在所述第一表面上的投影落入所述開口在所述第一表面上的投影中。
4.如權利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于：所述第一基板呈矩 形，其還具有第二邊緣、第三邊緣和第四邊緣，所述第一邊緣、第一邊緣、第 三邊緣和第四邊緣依次首尾相接，共同構成所述第一基板的四周邊緣，所述第 一承載區(qū)域位于所述第二邊緣、第三邊緣和第四邊緣的附近分別至少具有一開 口，至少部分所述第二邊緣、第三邊緣和第四邊緣在所述第一表面上的投影分 別落入所述開口在所述第一表面上的投影中。
5.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：所述第一表面具有 多個所述第一承載區(qū)域，每所述第一承載區(qū)域用于承載一結合的所述第一基板 和第二基板，多個所述第一承載區(qū)域呈矩陣排列于所述第一表面。
6.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：所述結合層為液體 膠層。
7.如權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于：所述第一邊緣呈直 線型，所述開口呈長條形，所述長條形的長邊與所述第一邊緣平行設置。
8.如權利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于：所述第一基板在所 述第一表面上的投影落入所述第二基板在所述第一表面上的投影中，所述第一 基板在垂直于所述第一邊緣方向上的跨度小于所述第二基板在垂直于所述第 一邊緣方向上的跨度。
9.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：所述開口鄰接所述 第一邊緣的一側(cè)具有一第五邊緣，所述第五邊緣在所述第一表面上的投影與所 述第一邊緣在所述第一表面上的投影重合。
10.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：所述第一基板為觸 控面板，所述第二基板為蓋板，所述基板處理裝置還包括一吸附元件，所述吸 附元件將所述第一基板吸附于所述第一承載區(qū)域所在的第一表面上，所述光束 為紫外線固化光束。
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G06F 電數(shù)字數(shù)據(jù)處理
G06F3-00 用于將所要處理的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變成為計算機能夠處理的形式的輸入裝置；用于將數(shù)據(jù)從處理機傳送到輸出設備的輸出裝置，例如，接口裝置
G06F3-01 .用于用戶和計算機之間交互的輸入裝置或輸入和輸出組合裝置
G06F3-05 .在規(guī)定的時間間隔上，利用模擬量取樣的數(shù)字輸入
G06F3-06 .來自記錄載體的數(shù)字輸入，或者到記錄載體上去的數(shù)字輸出
G06F3-09 .到打字機上去的數(shù)字輸出
G06F3-12 .到打印裝置上去的數(shù)字輸出
