[發明專利]一種提高皇冠型圖形化襯底均勻性的套刻方法

有效

• 申請號: 201410554907.2
• 申請日: 2014-10-17
• 公開（公告）號: CN104300063A
• 公開（公告）日: 2015-01-21
• 發明（設計）人: 韓沈丹
• 申請（專利權）人: 西安神光安瑞光電科技有限公司
• 主分類號: H01L33/22
• 分類號: H01L33/22;H01L33/00
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 胡樂

1.一種提高皇冠型圖形化襯底均勻性的套刻方法，其特征在于：采用了兩套光刻板，其中第一光刻板為圓面，第一光刻板的直徑記為a，第二光刻板為圓環，圓環的內環直徑記為b，要求b＞a，且b＞光刻機的分辨率；該套刻方法主要包括以下步驟：

(1)在拋光后的襯底表面旋涂光刻膠；

(2)選擇第一光刻板，使用光刻機對涂膠后的襯底表面進行曝光并顯影；

(3)使用ICP刻蝕顯影后的帶膠襯底,使襯底本體的刻蝕深度達到0.5μm-1.0μm時停止；

(4)將刻蝕后的襯底酸洗去膠，甩干；

(5)在襯底表面再次旋涂光刻膠；選擇第二光刻板，使第二光刻板與第一光刻板的圖形圓心重合，使用光刻機對涂膠后的襯底表面進行再次曝光并顯影；

(6)使用ICP再次對帶膠襯底進行刻蝕，得到目標尺寸的皇冠型圖形襯底；

(7)對制得的皇冠型圖形化襯底進行化學清洗。

2.根據權利要求1所述的提高皇冠型圖形化襯底均勻性的套刻方法，其特征在于：所述光刻機為步進式光刻機。

3.根據權利要求1所述的提高皇冠型圖形化襯底均勻性的套刻方法，其特征在于：步驟(2)中曝光能量選擇80-160ms，焦距-0.5-0.5；步驟(5)中曝光能量選擇150-200ms，焦距-0.5-0.5。

4.根據權利要求1所述的提高皇冠型圖形化襯底均勻性的套刻方法，其特征在于：步驟(2)和步驟(5)的最后還對顯影后的帶膠襯底于130℃下烘烤5-10min。

5.根據權利要求1所述的提高皇冠型圖形化襯底均勻性的套刻方法，其特征在于：步驟(4)采用的酸洗液為硫酸與雙氧水的混合溶液，以質量分數為98％的濃硫酸和30％的雙氧水計，濃硫酸與雙氧水的體積比為3:1-4:1。

6.根據權利要求1所述的提高皇冠型圖形化襯底均勻性的套刻方法，其特征在于：所述襯底為藍寶石襯底；

步驟(3)和(6)的刻蝕過程，上電極功率2000-2400W，下電極功率150-550W，腔室壓力1.5-4mT，刻蝕氣體為BCl₃與CHF₃的混合氣體，其中CHF₃占5-27％，溫度-20-20℃。

7.根據權利要求1所述的提高皇冠型圖形化襯底均勻性的套刻方法，其特征在于：兩次旋涂光刻膠的厚度均在1.0-2.0μm，但第二次勻膠厚度大于第一次襯底的刻蝕深度。