[發明專利]一種高分辨率有機發光二極管顯示器的制作方法

無效

• 申請號: 201410554494.8
• 申請日: 2014-10-17
• 公開（公告）號: CN104393196A
• 公開（公告）日: 2015-03-04
• 發明（設計）人: 張霞;于治水;林文松
• 申請（專利權）人: 上海工程技術大學
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/00
• 代理公司: 上海海頌知識產權代理事務所(普通合伙) 31258
• 代理人: 何葆芳

技術領域

本發明是涉及一種高分辨率有機發光二極管顯示器的制作方法，屬于發光二極管顯示器制造技術領域。

背景技術

有機發光二極管顯示器(OLED)是主動發光器件，相比現在的主流平板顯示器件－－薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)，有源矩陣有機發光二極管顯示器(AMOLED)具有對比度高、視角廣、功耗低、更輕薄等優點，有望成為繼LCD之后的下一代平板顯示器件，是目前平板顯示技術中受到關注最多的技術之一。

像素密度(PPI，pixel?per?inch)是目前高端有源矩陣有機發光二極管顯示器和薄膜晶體管液晶顯示器應用的最重要評判指標之一。目前三星電子最新Galaxy?S-IV采用的有源矩陣有機發光二極管顯示器面板，已經達到全高清解析度(Full?HD)水平，其像素密度高達440PPI，為有源矩陣有機發光二極管顯示器生產技術的發展建立了新的里程碑。

一般情況下，要生產高分辨率顯示器可以從三大基本要素著手：高開口率薄膜晶體管像素設計、高精度生產設備、生產技術最佳化等等。就像素設計方面而言，RGB?stripe、IGNIS、Pentile、Pentile-Diamond等像素排布方式已廣泛應用在三星的Galaxy系列智能手機的AMOLED顯示器上。

當前，已經用于量產有源矩陣有機發光二極管顯示器的技術是中小尺寸的小分子有機發光二極管顯示器技術，采用金屬掩膜板對RGB三色器件進行蒸鍍。而掩膜板通常采用濕法刻蝕制作，由于濕法刻蝕工藝的極限問題，已量產的30μm厚精細金屬掩模板最小開孔也只能做到25μm寬左右，對應的像素密度約為340PPI左右，無法達到如薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)采用濾色片方式使得分辨率高達400PPI以上的效果。

三星公司采用Pentile-Diamond像素排布方式對RGB三色器件進行蒸鍍，使得有源矩陣有機發光二極管顯示器(AMOLED)分辨率達到441PPI，但是，采用同樣方法希望再進一步提高有源矩陣有機發光二極管顯示器(AMOLED)的分辨率卻比較困難。

發明內容

針對現有技術存在的上述問題，本發明的目的是提供一種高分辨率有機發光二極管顯示器(OLED)的制作方法，克服精細金屬掩模板(FMM)濕法刻蝕制備工藝的極限，獲得分辨率高于400PPI的效果，滿足高分辨率有源矩陣有機發光二極管顯示器(AMOLED)的生產需要。

為達上述目的，本發明采用如下技術方案：

一種高分辨率有機發光二極管顯示器的制作方法，為改進的掩模板蒸鍍法，其特征在于：掩模板的開孔為圓孔。

所述的掩模板由金屬、塑料、金屬塑料復合體、無機薄膜材料中的至少一種制成，優選殷鋼片、聚酰亞胺樹脂。

所述的有機發光二極管顯示器的子像素按正三角形或正四邊形結構排布。

濕法刻蝕制作的精細金屬掩模板(FMM)，如果原來的狹槽(slot)開孔是正方形，那么隨著開孔尺寸的減小，最終刻蝕出來的開孔形狀會逐漸變成圓孔。理論上講，規則排列的圓孔狀的金屬掩膜板(shadow?mask)更易制作和張網，開孔直徑d可做得更小，從而提高物理分辨率。本發明技術中，圓孔型掩膜板(mask?sheet)的圓孔直徑可以進一步從25μm減小到20μm、15μm甚至更小，加上正多邊形的像素排布，使得有機發光二極管顯示器(OLED)像素密度進一步提高，從而提高有源矩陣有機發光二極管顯示器(AMOLED)的分辨率。

開孔方式可以采用激光加工打孔或電鑄方法或者電化學方法如Al2O3模板進行。

實際應用過程中，有源矩陣有機發光二極管顯示器(AMOLED)的分辨率還依賴于薄膜晶體管(TFT)的背板設計，也就是依賴于補償電路中薄膜晶體管(TFT)和存儲電容數量的多少或大小(如7T1C，6T2C或2T1C等)以及光刻機曝光精度等。要真正使得有源矩陣有機發光二極管顯示器(AMOLED)的高分辨率超過400PPI、甚至達到600PPI，需要薄膜晶體管(TFT)的背板工藝和有機發光二極管顯示器(OLED)工藝的匹配，通過二者的有機結合才能實現。

與現有技術相比，本發明具有如下有益效果：

本發明提供的一種高分辨率有機發光二極管顯示器的制作方法，通過簡單的技術改進，即可在現有工藝和設備的基礎上，生產出高像素密度的有機發光二極管顯示器，具有顯著的工業化應用價值。

附圖說明

圖1是實施例1提供的正三角形像素結構排布示意圖；

圖2為實施例1提供的兩步法蒸鍍紅光發光層時，高精細金屬掩模板(FMM)的圓孔結構示意圖；