[發明專利]基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法有效
| 申請號： | 201410549652.0 | 申請日： | 2014-10-15 |
| 公開（公告）號： | CN104385593A | 公開（公告）日： | 2015-03-04 |
| 發明（設計）人： | 魯中良;李滌塵;吉喆;周江平;苗愷;董茵 | 申請（專利權）人： | 西安交通大學;西安中航動力精密鑄造有限公司 |
| 主分類號： | B29C67/00 | 分類號： | B29C67/00 |
| 代理公司： | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人： | 陸萬壽 |
| 地址： | 710049 陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 霧化 技術 光固化 快速 原型 表面 粗糙 降低 方法 | ||
1.基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)以蠟乳液作為涂平原料，將蠟乳液加熱使其粘度降低至6.0～9.0mPa.s；
2)將熱的蠟乳液通過霧化設備對密閉空間進行霧化操作，在密閉空間中形成均勻的霧化環境；
3)將待處理的光固化快速原型件置于霧化環境中，霧化后的蠟乳液在光固化快速原型件內外腔表面均勻覆膜，放置10～90s后將光固化快速原型件取出；
4)對取出的光固化快速原型件在不超過蠟乳液破乳的溫度下加熱，烘干蠟乳液中的水分，在光固化快速原型件表面形成均勻涂層。
2.如權利要求1所述的基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法，其特征在于，所述的蠟乳液中蠟顆粒的粒徑為100～200nm。
3.如權利要求1或2所述的基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法，其特征在于，所述的蠟乳液是由蠟與乳化劑混勻制成，蠟為聚乙烯蠟、石蠟、棕櫚蠟、聚丙烯蠟、聚四氟乙烯蠟中的一種或幾種；乳化劑為肥皂、阿拉伯膠、烷基苯磺酸鈉中的一種或幾種；蠟與乳化劑的體積比比為3:7～5:5。
4.如權利要求1所述的基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法，其特征在于，步驟1)對蠟乳液加熱的操作是在不超過蠟乳液破乳的溫度下進行的。
5.如權利要求1所述的基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法，其特征在于，所述的霧化設備為超聲霧化設備或超高壓霧化設備。
6.如權利要求1所述的基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法，其特征在于，在進行霧化操作時，霧化空間與蠟乳液的比例為1m3：(4～6)kg。
7.如權利要求1所述的基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法，其特征在于，所述的霧化環境中，霧化粒度為8～15μm。
8.如權利要求1所述的基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法，其特征在于，所述的光固化快速原型件內外腔表面形成的覆膜的厚度控制在100μm以內。
9.如權利要求1所述的基于霧化技術的光固化快速原型件表面粗糙度降低方法，其特征在于，所述步驟4)在對霧化覆膜后的光固化快速原型件進行加熱時，加熱溫度為35℃～40℃，加熱時間為40～80min。
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