[發明專利]等離子涂敷設備的噴槍的清潔方法以及等離子涂敷設備

有效

• 申請號: 201410539478.1
• 申請日: 2014-07-11
• 公開（公告）號: CN104404431B
• 公開（公告）日: 2019-04-09
• 發明（設計）人: B·迪斯特勒;P·埃恩斯特
• 申請（專利權）人: 歐瑞康美科股份公司;沃倫
• 主分類號: C23C4/134
• 分類號: C23C4/134
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄧雪萌;嚴志軍

1.一種清潔等離子涂敷設備的噴槍（13，113）的方法，其中在涂敷工藝中斷期間，噴槍（13，113）被從清潔噴嘴（28，128）排出的清潔劑（30，130）沖擊，同時維持等離子，其中附著在噴槍（13，113）處的噴涂材料顆粒（32）由此被移除，

其中，清潔劑（30，130）以這樣的方式設計：其在離開清潔噴嘴（28，128）之后變成氣態，

其特征在于，將所述清潔劑沖擊在所述噴槍上，使得等離子不被直接沖擊。

2.根據權利要求1所述的方法，

其特征在于，

清潔劑（30，130）以這樣的方式設計：其在離開清潔噴嘴（28，128）之前是固體。

3.根據權利要求2所述的方法，

其特征在于，

清潔劑（30，130）是干冰。

4.根據權利要求1所述的方法，

其特征在于，

清潔劑（30，130）以這樣的方式設計：其在離開清潔噴嘴（28，128）之前是液體。

5.根據權利要求4所述的方法，

其特征在于，

清潔劑（30，130）是液氮。

6.根據權利要求4所述的方法，

其特征在于，

清潔劑（30，130）是液體二氧化碳。

7.根據前述權利要求1至6中任一項所述的方法，

其特征在于，

噴槍（13，113）在涂敷工藝過程中旋轉，并且在清潔劑（30，130）沖擊之前，停止這種旋轉。

8.根據權利要求7所述的方法，

其特征在于，

在限定的清潔位置，噴槍（13，113）的旋轉被停止。

9.根據前述權利要求1至6中任一項所述的方法，

其特征在于，

在被清潔劑（30，130）沖擊的過程中，噴槍（13，113）在相對于清潔噴嘴（28，128）的限定的清潔路徑上移動。

10.根據前述權利要求1至6中任一項所述的方法，

其特征在于，

在被清潔劑（30）沖擊之前，噴槍（13，113）被驅動進入清潔站點（27）。

11.一種具有噴槍（13，113）和清潔噴嘴（28，128）的等離子涂敷設備，其中在涂敷工藝中斷的過程中，提供清潔噴嘴（28，128），以使用從清潔噴嘴（28，128）排出的清潔劑（30，130）沖擊噴槍（13，113），并且其中附著在噴槍（13，113）處的噴涂材料顆粒由此被移除，

其中，清潔劑（30，130）以這樣的方式設定：其在離開清潔噴嘴（28，128）之后轉變成氣態，

其特征在于，所述噴槍和所述清潔噴嘴布置成使得允許所述清潔劑來沖擊在所述噴槍上，而不直接沖擊等離子，在所述噴槍的清潔操作期間維持等離子。

12.如權利要求11所述的等離子涂敷設備，

其特征在于，

清潔噴嘴（128）布置在噴槍（113）處。