[發明專利]一種光刻膠清洗液

有效

• 申請號: 201410514269.1
• 申請日: 2014-09-29
• 公開（公告）號: CN105527803B
• 公開（公告）日: 2020-08-18
• 發明（設計）人: 劉兵;彭洪修;黃達輝;鄭玢;孫廣勝;張煒
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 北京大成律師事務所 11352
• 代理人: 李佳銘

1.一種光刻膠清洗液，含有水、醇胺、醇醚，其特征在于，所述光刻膠清洗液還包括連苯三酚及其衍生物和C3-C6多元醇，且所述的清洗液不含有氟化物、羥胺、環狀胺和季胺氫氧化物；所述C3-C6多元醇為1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、丙三醇、蘇糖醇、赤蘚醇、核糖醇、阿拉伯糖醇、木糖醇、塔羅糖醇、山梨醇、甘露醇、艾杜糖醇和/或半乳糖醇；所述連苯三酚及其衍生物為連苯三酚、4-甲基連苯三酚、5-甲基連苯三酚、4-甲氧基連苯三酚、5-甲氧基連苯三酚、5-叔丁基連苯三酚、5-羥甲基連苯三酚、沒食子酸、沒食子酸甲酯和/或1-沒食子酸甘油酯；所述C3-C6多元醇的含量為質量百分比0.1-5％；所述連苯三酚及其衍生物的含量為質量百分比0.1-10％；所述水的含量為質量百分比5-40％；所述醇醚的含量為質量百分比5-30％；所述醇胺的含量為質量百分比30-70％。

2.如權利要求1所述的光刻膠清洗液，其中，所述C3-C6多元醇的含量為質量百分比0.1-3％。

3.如權利要求1所述的光刻膠清洗液，其中，所述連苯三酚及其衍生物的含量為質量百分比0.5-8％。

4.如權利要求1所述的光刻膠清洗液，其中，所述水的含量為質量百分比10-35％。

5.如權利要求1所述的光刻膠清洗液，其中，所述醇醚為二乙二醇單烷基醚和/或二丙二醇單烷基醚。

6.如權利要求5所述的光刻膠清洗液中， 其中，所述二乙二醇單烷基醚為二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚和/或二乙二醇單丁醚；所述二丙二醇單烷基醚為二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚和/或二丙二醇單丁醚。

7.如權利要求1所述的光刻膠清洗液，其中，所述醇醚的含量為質量百分比10-25％。

8.如權利要求1所述的光刻膠清洗液，其中，所述醇胺為單乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和/或二甘醇胺。

9.如權利要求1所述的光刻膠清洗液，其中，所述醇胺的含量為質量百分比40-60％。

10.一種如權利要求1-9任一項所述的清洗液在去除光阻殘留物的應用。