[發(fā)明專利]同軸度調(diào)整定位裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410501075.8
• 申請日: 2014-09-26
• 公開（公告）號: CN104384917B
• 公開（公告）日: 2017-01-11
• 發(fā)明（設計）人: 王剛;路文平;楊云峰;向道海;馮貴全;靳朝陽
• 申請（專利權）人: 中核（天津）機械有限公司
• 主分類號: B23P19/10
• 分類號: B23P19/10
• 代理公司: 天津市宗欣專利商標代理有限公司12103
• 代理人: 胡恩河

1.一種同軸度調(diào)整定位裝置，包括底板（1）和軸承座（2），底板（1）中間形成通孔，其特征在于：所述軸承座（2）中間形成階梯孔（10），軸承座（2）上部形成上凸緣（11），軸承座（2）通過上凸緣（11）卡合于底板（1）的通孔中，圓臺形底座（3）通過螺釘（8）與軸承座（2）的下底面固定連接；底座（3）的凸臺部（12）與軸承座（2）的階梯孔（10）下段卡合，底座（3）中間形成異徑孔（13），氣缸（4）通過螺柱（9）與底座（3）的下底面固定連接；圓柱型頂起塊（5）安裝于底座（3）的異徑孔（13）中，且與底座（3）間隙配合，頂起塊（5）下底面形成下凸緣（14），中間形成截面呈工字型的工字孔（15），氣缸（4）的活塞桿（16）伸入工字孔（15）中，且通過螺母（17）與頂起塊（5）固定，圓筒形定位座（6）安裝于軸承座（2）的階梯孔（10）中，定位座（6）中間形成與工件（20）相匹配的異徑通孔（18），上端形成凸緣部（19），兩個軸承（7）安裝于定位座（6）與軸承座（2）的左右間隙中。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種同軸度調(diào)整定位裝置，其特征在于：所述凸緣部（19）的下底面高于上凸緣（11）的上頂面。