[發(fā)明專利]可補充圖像形成劑的圖像形成劑儲存單元和事務(wù)機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410488589.4 | 申請日: | 2014-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN105269952B | 公開(公告)日: | 2017-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林嘉信 | 申請(專利權(quán))人: | 虹光精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | B41J2/00 | 分類號: | B41J2/00 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務(wù)所31210 | 代理人: | 梅高強,崔巍 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 補充 圖像 形成 儲存 單元 事務(wù) | ||
1.一種可補充圖像形成劑的圖像形成劑儲存單元,其特征在于,包括:
殼體,用以承載圖像形成劑;
圖像形成劑注入口,設(shè)在所述殼體的一端;以及
流體排出機構(gòu),設(shè)在所述殼體的表面;
其中當所述圖像形成劑注入口接受圖像形成劑添加至所述殼體內(nèi)部時,所述殼體內(nèi)部的流體經(jīng)由所述流體排出機構(gòu)排出;
所述流體排出機構(gòu)包括排出口,設(shè)于所述殼體的表面,所述殼體內(nèi)部的所述流體經(jīng)由所述排出口離開所述殼體內(nèi)部;所述流體排出機構(gòu)還包括上蓋;所述上蓋覆蓋在所述排出口上,所述殼體與所述上蓋之間形成排出通道;所述排出口位于所述上蓋的一側(cè),所述上蓋與所述一側(cè)相對的另一側(cè)設(shè)有孔隙,所述流體由所述排出口經(jīng)由所述排出通道,由所述孔隙離開所述圖像形成劑儲存單元。
2.如權(quán)利要求1所述的圖像形成劑儲存單元,其特征在于,所述流體排出機構(gòu)設(shè)在所述殼體的另一端,遠離所述圖像形成劑注入口。
3.如權(quán)利要求1或2所述的圖像形成劑儲存單元,其特征在于,所述流體排出機構(gòu)限制圖像形成劑離開所述圖像形成劑儲存單元。
4.如權(quán)利要求1或2所述的圖像形成劑儲存單元,其特征在于,所述流體排出機構(gòu)包括:
排出口,設(shè)于所述殼體的表面,所述殼體內(nèi)部的所述流體經(jīng)由所述排出口離開所述殼體內(nèi)部;
排出通道,設(shè)置在所述排出口的外側(cè);以及
阻擋組件,設(shè)置在所述排出通道內(nèi),用以限制圖像形成劑離開所述圖像形成劑儲存單元。
5.如權(quán)利要求4所述的圖像形成劑儲存單元,其特征在于,所述阻擋組件延長所述排出通道的路徑。
6.如權(quán)利要求4所述的圖像形成劑儲存單元,其特征在于,所述流體排出機構(gòu)還包括上蓋;所述排出通道由所述殼體與所述上蓋形成;所述上蓋覆蓋所述阻擋組件以及所述排出口。
7.如權(quán)利要求6所述的圖像形成劑儲存單元,其特征在于,所述上蓋為可拆卸式。
8.如權(quán)利要求4所述的圖像形成劑儲存單元,其特征在于,所述流體排出機構(gòu)還包括:
遮蔽單元,具有顯露狀態(tài)以顯露所述排出口,以及遮蔽狀態(tài)以遮蔽所述排出口;
其中所述遮蔽單元在所述遮蔽狀態(tài)時,阻擋所述殼體內(nèi)部的流體經(jīng)由所述排出口排出。
9.一種可補充圖像形成劑的事務(wù)機,其特征在于,包括:
機殼;
成像單元,裝設(shè)在所述機殼內(nèi)部,用以在媒體形成圖像;
定影單元,裝設(shè)在所述機殼內(nèi)部,用以將所述圖像固定在所述媒體;以及
如上述權(quán)利要求1-8中任一權(quán)利要求所述的圖像形成劑儲存單元,設(shè)置在所述成像單元的一側(cè)。
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