[發明專利]鐵皮石斛的生長環境跟隨系統及方法有效
| 申請號: | 201410487514.4 | 申請日: | 2014-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN104267769B | 公開(公告)日: | 2017-01-11 |
| 發明(設計)人: | 裘正軍;張衛正;鮑曉杰;吳翔;宋星霖;何勇 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | G05D27/02 | 分類號: | G05D27/02;A01G9/24 |
| 代理公司: | 杭州天勤知識產權代理有限公司33224 | 代理人: | 胡紅娟 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鐵皮 石斛 生長 環境 跟隨 系統 方法 | ||
技術領域
本發明涉及植物生長環境控制和植物栽培技術領域,尤其涉及一種鐵皮石斛的生長環境跟隨系統及方法。
背景技術
根據參考文獻:陳志國.鐵皮石斛的病蟲害防治及采收加工技術[J].現代農業,2012(3):35-35.,以及:斯金平,諸燕,朱玉球.鐵皮石斛人工栽培技術研究與應用進展[J].浙江林業科技,2009,29(6):66-70.,鐵皮石斛是蘭科多年生附生草本植物,生于海拔達1600米的山地半陰濕的巖石上,喜溫暖濕潤氣候和半陰半陽的環境,不耐寒。具有生津養胃、滋陰清熱、潤肺益腎的功效,同時可增強機體免疫力。鐵皮石斛主要分布于中國安徽、浙江、福建等地,適宜在涼爽、濕潤、空氣暢通的環境生長。
公開號為CN?101843218A的專利文獻中指明野生的鐵皮石斛瀕臨滅絕,需要人工大面積種植,保障鐵皮石斛的可持續生產。鐵皮石斛的種植大都集中在云南、貴州、四川、廣西、廣東、海南等適宜地區,北方大棚的種植、生長條件與鐵皮石斛野生生長環境有很多的不同,大棚的種植往往病蟲害較多,影響生產效益。
鐵皮石斛栽培要求在大棚中進行,大棚的建造要求做到通風、遮蔭擋雨、有防蟲網,并根據鐵皮石斛的生長習性,考慮場地的光照、溫度、濕度、通風等自然因素。鐵皮石斛生長的適宜溫度為15~30℃(袁正仿,張蘇鋒,遠凌威.鐵皮石斛高產優質栽培技術[J].河南農業科學,2004(2):49-49.),在浙江地區夏季比較炎熱,一般采用80%的遮陽網覆蓋,掀開塑料薄膜,以利降溫;冬季比較寒冷,在30%~50%遮陽度下用雙層塑料薄膜封閉保溫。鐵皮石斛要求保持基質濕潤,空氣濕度保持80%以上為好,但又不能積水,澆水時采用噴灌或滴灌最好,不得沖灌。不同的季節不同的地區澆水量亦不同(斯金平,諸燕,朱玉球.鐵皮石斛人工栽培技術研究與應用進展[J].浙江林業科技,2009,29(6):66-70.)。
公開號為CN202660377A的專利文獻公開了一種鐵皮石斛人工栽培用的LED植物生長照明裝置,采用高光效的620nm單色紅光LED射燈和460nm單色籃光LED射燈,小角度射燈定向照射,集中照射鐵皮石斛莖葉,避免大量的無效漫射光照;本實用新型采用單色光選擇性比率照射,計算機智能程序控制,可以節約能源消耗80%以上。
王宏在公開號為CN?102613026A的專利文獻中提供一種栽培鐵皮石斛的日光溫室及鐵皮石斛的栽培方法,日光溫室為室內地面比室外地面低且東、西、北三面均為墻,南面為采光面;采光面方位為向南偏東10-20°,并分為透光區和不透光區且二者相間分布;栽培鐵皮石斛的方法:1)光照強度控制在3000-10000lux;2)溫度控制在5-32℃;3)濕度控制在60-80%;4)水的PH值控制在5.5-6.5;5)肥料為花多多1號20-20-20;6)基質為水苔∶松樹皮∶鋸末∶花生殼的體積比為1∶1∶1∶1的混合物。但以上方法主要是根據經驗來確定生長環境的各個因素的控制,不夠精細,幼苗的成活率不夠高,與真正的野生環境有較大差異,沒有實現與野生的鐵皮石斛的生長環境信息的同步。
馮燕爾在公開號為CN203217406的專利文獻中公開了一種溫室內溫濕度遠程監控系統,使管理者能夠遠程監控溫室的空氣溫度、濕度狀態和土壤的濕度狀態,并且能夠自動進行空氣濕度調節和空氣升溫、土壤增加濕度的調節控制,它包括放置在溫室的溫室單片機、空氣溫濕度采集模塊、土壤濕度采集模塊、加濕器、滴灌裝置、增溫設備、除濕機和溫室無線通信模塊,以及放置在遠程的監控處理器、監控無線通信模塊和語音報警單元,溫室單片機分別連接空氣溫濕度采集模塊、土壤濕度采集模塊、加濕器、滴灌裝置、增溫設備、除濕機和溫室無線通信模塊,監控處理器分別連接監控無線通信模塊和語音報警單元。
這些方法所存在的問題就在于,無法在大棚中模擬野生鐵皮石斛的生長環境,從而得到優質的鐵皮石斛。
發明內容
為了解決現有技術存在的問題,本發明提供了一種系統,模擬大棚內的生長環境,使得在大棚內的鐵皮石斛能夠與野外種植類似。一種大棚內鐵皮石斛的生長環境跟隨系統,包括:
兩套生長環境信息采集模塊,其中一套用于周期性采集野外鐵皮石斛的生長環境信息,另一套用于實時采集大棚內鐵皮石斛的生長環境信息,所述生長環境信息包括:光照強度、溫度、濕度、土壤水分以及二氧化碳濃度;
信息比較模塊,定期接收和存儲野外的生長環境信息作為目標值,并實時接收大棚內的生長環境信息并與對應的目標值進行對比,并得到各個差值;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江大學,未經浙江大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410487514.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種鍋爐輔機排污罐自動排污系統
- 下一篇:一種漆包機遠程自動化控制的方法





